點(diǎn)腐蝕就是指在金屬材料表面大部分*或者腐蝕輕微，而分散發(fā)生的局部腐蝕。一般點(diǎn)腐蝕的孔徑都小于1mm，深度都小于孔徑。不銹鋼在含有Cl的環(huán)境中容易出現(xiàn)點(diǎn)腐蝕的傾向。

點(diǎn)腐蝕和縫隙腐蝕是金屬材料接觸某些溶液，表面上產(chǎn)生點(diǎn)狀局部腐蝕，蝕孔隨時(shí)間的延續(xù)不斷地加深，甚至穿孔，稱為點(diǎn)腐蝕（點(diǎn)蝕），也稱孔蝕。通常點(diǎn)蝕的蝕孔很小，直徑比深度小得多。蝕孔的zui大深度與平均腐蝕深度的比值稱為點(diǎn)蝕系數(shù)。

蝕孔的zui大深度與平均腐蝕深度的比值稱為點(diǎn)蝕系數(shù)。此值越大，點(diǎn)蝕越嚴(yán)重。一般蝕孔常被腐蝕產(chǎn)物覆蓋，不易發(fā)現(xiàn)，因此往往由于腐蝕穿孔，造成突然性事故（見金屬腐蝕）。

點(diǎn)腐蝕 金屬表面的電化學(xué)不均勻性是導(dǎo)致點(diǎn)蝕的重要原因。金屬材料的表面或鈍化膜等保護(hù)層中常顯露出某些缺陷或薄弱點(diǎn)(如夾雜物、晶界、位錯(cuò)等處)，這些地方容易形成點(diǎn)蝕核心。金屬浸入含有某些活化陰離子（特別是氯離子）的溶液中，只要腐蝕電位達(dá)到或超過點(diǎn)蝕電位（或稱擊穿電位），就能產(chǎn)生點(diǎn)蝕。這是由于鈍化膜在溶液中處于溶解以及可再度形成的動(dòng)平衡狀態(tài),而溶液中的活化陰離子(氯離子)會(huì)破壞這種平衡,導(dǎo)致金屬的局部表面形成微小蝕點(diǎn)，并發(fā)展為點(diǎn)蝕源。例如不銹鋼表面的硫化物夾雜的溶解，暴露出鋼的新鮮表面，就會(huì)形成點(diǎn)蝕源。

點(diǎn)蝕的發(fā)展是一個(gè)在閉塞區(qū)內(nèi)的自催化過程。在有一定閉塞性的蝕孔內(nèi),溶解的金屬離子濃度大大增加,為保持電荷平衡，氯離子不斷遷入蝕孔，導(dǎo)致氯離子富集。高濃度的金屬氯化物水解，產(chǎn)生氫離子，由此造成蝕孔內(nèi)的強(qiáng)酸性環(huán)境，又會(huì)進(jìn)一步加速蝕孔內(nèi)金屬的溶解和氯離子濃度的增高和酸化。蝕孔內(nèi)壁處于活化狀態(tài)（構(gòu)成腐蝕原電池的陽極），而蝕孔外的金屬表面仍呈鈍態(tài)（構(gòu)成陰極），由此形成了小陽極/大陰極的活化-鈍化電池體系，使點(diǎn)蝕急速發(fā)展。

溶液中的氯離子濃度對(duì)兩種腐蝕有很大的影響，通常是氯離子濃度愈高，點(diǎn)蝕和縫隙腐蝕發(fā)生的可能性也愈大，而且發(fā)展的速度也愈快。其他鹵族離子也有類似的影響。一般溶液的溫度愈高，產(chǎn)生點(diǎn)蝕和縫隙腐蝕的危險(xiǎn)性也愈大。

防止措施 提高材料耐點(diǎn)蝕性的重要措施是添加適當(dāng)?shù)暮辖鹪兀ㄈ缭诓讳P鋼中添加鉬），采取鈍化處理及適當(dāng)?shù)臒崽幚恚档徒饘俨牧现械膴A雜物含量。防止縫隙腐蝕的主要措施是在結(jié)構(gòu)中要避免縫隙和能造成表面沉積的幾何形狀，要盡量用焊接代替鉚接，采用非吸濕性材料做墊圈。電化學(xué)保護(hù)對(duì)防止點(diǎn)蝕和縫隙腐蝕都有效。采用合適的耐點(diǎn)蝕和耐縫隙腐蝕的金屬材料也是防止點(diǎn)蝕與縫隙腐蝕的有效措施。