一、產品名稱概述：光催化劑超高速分散機,光催化劑納米分散機,光催化劑高剪切分散機,光催化劑管線式分散機,光觸媒超高速分散機
二、光催化劑的簡介
通俗意義上講觸媒就是催化劑的意思，光觸媒顧名思義就是光催化劑。催化劑是改變化學反應速率的化學物質，其本身并不參與反應。光催化劑就是在光子的激發(fā)下能夠起到催化作用的化學物質的統(tǒng)稱。
三、光催化劑材料的種類
世界上能作為光觸媒的材料眾多，包括二氧化鈦,氧化鋅),氧化錫二氧化鋯，硫化鎘等多種氧化物硫化物半導體，其中二氧化鈦因其氧化能力強，化學性質穩(wěn)定無毒，成為世界上當紅的納米光觸媒材料。在早期，也曾經較多使用硫化鎘和氧化鋅作為光觸媒材料，但是由于這兩者的化學性質不穩(wěn)定，會在光催化的同時發(fā)生光溶解，溶出有害的金屬離子具有一定的生物毒性，故發(fā)達國家目前已經很少將它們用作為民用光催化材料，部分工業(yè)光催化領域還在使用。
二氧化鈦是一種半導體，分別具有銳鈦礦，金紅石及板鈦礦三種晶體結構，其中只有銳鈦礦結構和金紅石結構具有光催化特性。
四、光催化原理
因為生產光催化劑的材料幾乎都是固體半導體材料，因此光催化又稱為半導體光催化。光催化氧化的機理是用固體能帶理論來解釋的。
根據固體能帶理論，固體材料的能帶結構可以分為價帶、禁帶和導帶三部分。導體的導帶和價帶發(fā)生了重合即其禁帶寬度為零，所以導體可以導電;絕緣體的禁帶寬度很大以至于價帶的電子很難被激發(fā)使其躍遷至導帶，所以絕緣體不導電;半導體的禁帶寬度介于導體與絕緣體之間，所以其在一定條件下可以導電。
在半導體中，所有價電子所處的能帶就是所謂的價帶，比價帶能量更高的能帶便是導帶，介于價帶和導帶之間的空隙稱之為禁帶。光催化氧化過程簡單的說就是價帶上的電子受到光照的激發(fā)躍遷至導帶，形成了電子和空穴，形成的電子-空穴對又引發(fā)了其他的一系列的反應。
五、光催化劑材料的分散
光催化材料應用中，一般需要將二氧化鈦分散到液體基料中，形成懸浮液，需要對光催化劑體系進行研磨分散，使懸浮液(或乳化液)體系中的分散物微?；?、均勻化的處理過程，這種處理同時起降低分散物尺度和提高分散物分布均勻性的作用，使得光催化劑產品更穩(wěn)定。結合多家客戶案例，推薦GMSD2000系列超高速研磨分散機，兩級結構，先研磨后分散，轉速0-18000rpm，研磨分散效果好，粒徑小，均勻度高。
六、光催化材料分散機的特點
1、光催化材料分散設備采用上海SGN技術，*創(chuàng)意，融化理念。將SGN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來GM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”。
2、SGN光催化材料納米分散機采用德國博格曼雙端面機械密封，在保證冷卻水的前提下，可24小時連續(xù)運行。而普通分散機很難做到連續(xù)長時間的運行，并且普通分散機不能承受高轉速的運行。通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力。
3、 GMSD2000系列光觸媒研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。一級由具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。光觸媒分散機
七、光催化材料研磨分散機選型表
標準流量（H2O） | 輸出轉速 | 標準線速度 | 馬達功率 | 進出口尺寸 | |
型號 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD 2000/4 | 300-1,000 | 14000 | 44 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMSD 2000/5 | 1,000-1.500 | 10,500 | 44 | 7.5 | DN40 /DN 32 |
GMSD 2000/10 | 3,000 | 7,300 | 44 | 15 | DN50 / DN50 |
GMSD 2000/20 | 8,000 | 4,900 | 44 | 37 | DN80 /DN 65 |
GMSD 2000/30 | 20,000 | 2,850 | 44 | 75 | DN150 /DN 125 |
GMSD 2000/50 | 40,000 | 2,000 | 44 | 160 | DN200 /DN 150 |
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