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簡介
橢偏儀——SE200BA-M300
橢偏儀是一種利用光的偏振態(tài)變化來進行薄膜性質(zhì)表征的儀器，主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數(shù)等性質(zhì)。橢偏儀的主要原理是將自然光（紫外光、可見光以及紅外光）變成偏振光后通過一定角度入射到樣品上，偏振光進入樣品介質(zhì)后會反射回到橢偏儀檢偏器內(nèi)，由于樣品介質(zhì)會對偏振光的偏振態(tài)發(fā)生改變，而這種改變會被橢偏儀測量，橢偏儀就是利用這個介質(zhì)對偏振光性質(zhì)改變的原理來表征介質(zhì)的性質(zhì)的。
SE200BA-M300型號實現(xiàn)250nm到1000 nm超長波段的探測，可實現(xiàn)對材料紫外、可見和紅外波段的全覆蓋測量研究，同時可搭配自動平臺掃描、自動變角、微光斑探測以及平臺加熱等功能滿足不同應(yīng)用需求。
系統(tǒng)配置:
型號：SE200BM-M300
探測器：陣列探測器
光源：高功率的DUV-Vis-NIR復(fù)合光源
測量角度變化：手動調(diào)節(jié)
平臺：ρ-θ配置的自動成像
軟件：TFProbe 3.2版本的軟件
計算機：Inter雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器
電源：110–240V AC/50-60Hz，6A
保修：一年的整機及零備件保修
波長范圍：250nm到1000 nm
波長分辨率: 1nm
光斑尺寸：1mm至5mm可變
入射角范圍：0到90度
入射角變化分辨率：5度間隔
樣品尺寸：zui大直徑為300mm
基板尺寸：zui多可至20毫米厚
測量厚度范圍*：0nm?10μm
測量時間：約1秒/位置點
精度*：優(yōu)于0.25％
重復(fù)性誤差*：小于1 ?
規(guī)格參數(shù)
波長范圍：250nm 到 1000 nm
波長分辨率: 1nm
光斑尺寸：1mm 至 5mm 可變
入射角范圍：10 到 90 度
入射角變化分辨率：0.01 度
樣品尺寸：zui大直徑為 300mm
基板尺寸：zui多可至 20 毫米厚
選項配置:
用于反射的光度測量或透射測量；
用于測量小區(qū)域的微小光斑；
用于改變?nèi)肷浣嵌鹊淖詣恿拷瞧鳎?/span>
X－Y成像平臺(X-Y模式，取代ρ-θ模式)；
加熱/致冷平臺；
樣品垂直安裝角度計；
波長可擴展到遠DUV或IR范圍；
掃描單色儀的配置；
聯(lián)合MSP的數(shù)字成像功能，可用于對樣品的圖像進行測量等。
功能圖解
相關(guān)產(chǎn)品
光譜反射分析系列：SR100、SR300、SR500等
微光斑分析系列：MSP100、MSP300、MSP500等
橢偏儀系列：SE200BA、SE200BM等
自動掃描測試平臺：M100、M150、M200等
