ESS01采用寬光譜光源結(jié)合單色儀的方式實現(xiàn)高光譜分辨的橢偏測量。
ESS01系列光譜橢偏儀用于測量單層和多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)（如，厚層厚度、表面為粗糙度等）和光學(xué)參數(shù)（如，折射率n、消光系數(shù)k、復(fù)介電常數(shù)ε等），也可用于測量塊狀材料的光學(xué)參數(shù)。
ESS01適合多入射角光譜橢偏儀尤其適合科研中的新品研發(fā)。
技術(shù)特點：
極寬的光譜范圍
采用寬光譜光源、寬光譜掃描的系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計，保證了儀器在極寬的光譜范圍下都具有高準(zhǔn)確度，非常適合于對光譜范圍要求嚴(yán)格的場合。
靈活的測量設(shè)置
儀器的多個關(guān)鍵參數(shù)可根據(jù)要求而設(shè)定（包括：波長范圍、掃描步距、入射角度等），地提高了測量的靈活性，可以勝任要求苛刻的樣品。
原子層量的檢測靈敏度
采樣方法、高穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的設(shè)計和制造工藝實現(xiàn)并保證了能夠測量原子層量地納米薄膜，膜厚精度達到0.05nm。
非常經(jīng)濟的技術(shù)方案
采用較經(jīng)濟的寬光譜光源結(jié)合掃描單色儀的方式實現(xiàn)高光譜分辨的橢偏測量，儀器整體成本得到有效降低。
應(yīng)用領(lǐng)域：
ESS01系列多入射角光譜橢偏儀尤其適合科研中的新品研發(fā)。
ESS01適合很大范圍的材料種類，包括對介質(zhì)材料、聚合物、半導(dǎo)體、金屬等的實時和非實時檢測，光譜范圍覆蓋半導(dǎo)體地臨界點，這對于測量和控制合成的半導(dǎo)體合金成分非常有用。并且適合于較大的膜厚范圍（從次納米量到10微米左右）。
ESS01可用于測量光面基底上的單層和多層納米薄膜的厚度、折射率n及消光系數(shù)k。應(yīng)用領(lǐng)域包括：微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁介質(zhì)存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等。
薄膜相關(guān)應(yīng)用涉及物理、化學(xué)、信息、環(huán)保等，典型應(yīng)用包括：
半導(dǎo)體：如：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜，激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件等）；
平板顯示：TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等；
功能性涂料：增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學(xué)涂層，以及高分子、油類、Al2O3表面鍍層和處理等；
生物和化學(xué)工程：有機薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理、液體等。
節(jié)能環(huán)保領(lǐng)域：LOW-E玻璃等。
ESS01系列也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。應(yīng)用領(lǐng)域包括：固體（金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等），或液體（純凈物或混合物）。典型應(yīng)用包括：
玻璃新品研發(fā)和質(zhì)量控制等。
技術(shù)指標(biāo)：
| 項目 | 技術(shù)指標(biāo) |
| 光譜范圍 | ESS01VI：370-1700nm ESS01UI：245-1700nm |
| 光譜分辨率（nm） | 可設(shè)置 |
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入射角度 | 40°-90°自動調(diào)節(jié) |
| 準(zhǔn)確度 | δ(Psi): 0.02 ° ,δ(Delta): 0.04° （透射模式測空氣時） |
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膜厚測量重復(fù)性（1） | 0.05nm (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) |
| 折射率n測量重復(fù)性（1） | 0.001(對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) |
| 單次測量時間 | 典型0.6s / Wavelength / Point（取決于測量模式） |
| 光學(xué)結(jié)構(gòu) | PSCA（Δ在0°或180°附近時也具有的準(zhǔn)確度） |
| 可測量樣品大尺寸 | 直徑Φ200 mm |
| 樣品方位調(diào)整 | 高度調(diào)節(jié)范圍：10mm |
| 二維俯仰調(diào)節(jié)：±4° | |
| 樣品對準(zhǔn) | 光學(xué)自準(zhǔn)直顯微和望遠(yuǎn)對準(zhǔn)系統(tǒng) |
| 軟件 | •多語言界面切換 |
| •預(yù)設(shè)項目供快捷操作使用 | |
| •安全的權(quán)限管理模式（管理員、操作員） | |
| •方便的材料數(shù)據(jù)庫以及多種色散模型庫 | |
| •豐富的模型數(shù)據(jù)庫 | |
| 選配件 | 自動掃描樣品臺 聚焦透鏡 |
注：(1)測量重復(fù)性：是指對標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點、同一條件下連續(xù)測量30次所計算的標(biāo)準(zhǔn)差。
可選配件：
NFS-SiO2/Si二氧化硅納米薄膜標(biāo)片
NFS-Si3N4/Si氮化硅納米薄膜標(biāo)片
VP01真空吸附泵
VP02真空吸附泵
樣品池
