活性氧除臭技術(shù)原理
活性氧技能使用高壓靜電的特多殊脈沖方電方法（活性氧發(fā)射管每秒鐘發(fā)射上千億個高能離子）協(xié)同納米光催化反響，產(chǎn)生大量高密度的活性氧分子、活性負離子、光電子及羥基自由基等強氧化性的活性基團，敏捷與污染物分子碰撞，激活有機分子，并直接將其粉碎；同時，氛圍中的氧分子被引發(fā)產(chǎn)生二次活性氧，有機分子產(chǎn)生一系列鏈?zhǔn)椒错?，并使用自身反響產(chǎn)生的能量維系氧化反響，進一步氧化有機物質(zhì)，天生二氧化碳的水以及其他原子。
活性氧離子做為精良的電子受體到場光催化反響，實現(xiàn)活性氧氧化與納米光催化化的有用耦合，大大強化了納米光催化去除污染物的服從。該項技能是處置處罰低濃度、大流量有毒有害氣體的有用方法。
同傳統(tǒng)處置處罰技能相比，活性氧凈化設(shè)置除臭設(shè)備部署在占地面積、質(zhì)量、能耗以及處置處罰服從方面有計多長處。