離子除臭凈化設(shè)備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，以達(dá)到降解污染物的目的的一種環(huán)保設(shè)備。
離子除臭凈化設(shè)備的工藝流程如下
首先廢氣經(jīng)均流板過濾棉進(jìn)入設(shè)備時(shí)，由設(shè)備高壓穩(wěn)定高頻放電，瞬間產(chǎn)生1.5萬伏特至2萬伏特高壓，擊穿廢氣。此階段中，長鏈、多鏈廢氣分子由于鍵能較弱，約束力較小。很容易被擊穿化學(xué)鍵破裂，從而變成小分子化合物，此為階段凈化。
其次，隨廢氣進(jìn)入設(shè)備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂，生成強(qiáng)氧化基團(tuán)羥基、臭氧分子等。這些強(qiáng)氧化基團(tuán)與廢氣分子充分接觸氧化，加快反應(yīng)進(jìn)程。整個(gè)反應(yīng)干凈，能量利用率高，凈化效率非常高。
離子功能段可以激發(fā)污染物能量，促使長鏈、多鏈污染物分子的分子鍵斷裂重組，使難處理的污染物降解為較易處理的低碳污染物。
主要原理
離子除臭凈化設(shè)備利用特地制造的高能高臭氧氣UV紫外光光柱映射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如:氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵，使呈游離狀況的污染物分子與臭氧氣氧氣化接合成小分子無害或低害的化合物，如CO2、H2O等。
利用高能高臭氧氣UV紫外光光柱分解空氣中的氧氣分子萌生游離氧氣，即活性氧氣，因游離氧氣所攜正陰電子不平衡所以需與氧氣分子接合，繼續(xù)往前萌生臭氧氣。
UV+O2→O-+O*(活性氧氣)O+O2→O3(臭氧氣)，臭氧氣對(duì)有機(jī)化合物具備很強(qiáng)的氧氣化效用，對(duì)惡臭氣體及其他非常刺激性異味有立桿見影的掃除凈盡效果。
惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)施輸入到本凈化設(shè)施后，凈化設(shè)施使用高能UV紫外光光柱及臭氧氣對(duì)惡臭氣體施行協(xié)同分解氧氣化反響，使惡臭氣體事物其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和碳酸氣，再經(jīng)過排風(fēng)管道排出室外。
利用高能UV光柱裂解惡臭氣體中球菌的分子鍵，毀傷球菌的核酸(DNA)，再經(jīng)過臭氧氣施行氧氣化反響，達(dá)到脫臭及殺滅球菌的目標(biāo)。
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