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秦皇島開發(fā)區(qū)金源水處理設備廠

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所在地區(qū):河北秦皇島市

聯(lián)系人:金相哲-總經理 (經理)

技術文章

電子水處理器在*空調的應用

閱讀:2282發(fā)布時間:2010-4-13

 

隨著*空調的普遍使用,空調冷卻水水質的好壞越來越引起人們的重視,冷卻水水質直接影響冷凝器內部的傳熱性能,在蒸發(fā)溫度和其他條件一定的情況下,冷凝溫度越低,制冷系數(shù)就越大,耗電量就越少,機組運行就越經濟。據(jù)資料測算,冷凝溫度每降低1℃,單位制冷量的耗功率約減少3%-4%。因此,保證循環(huán)冷卻水水質在一定的范圍內,是防止制冷機組制冷效率衰減的主要措施之一。

1.1冷卻水循環(huán)過程中水質變化分析

  空調冷卻水系統(tǒng)一般分為敞開式和密閉式兩種循環(huán)系統(tǒng),而敞開式循環(huán)冷卻水系統(tǒng)以效果好、造價低而廣泛應用于工程中。但在敞開式系統(tǒng)實際運行過程中,循環(huán)冷卻水經逐漸蒸發(fā)冷卻后濃縮,水中Ca2+、Mg2+、C1-、S04、溶解性固體、懸浮物逐漸增加,另經風吹和日光照射,空氣中的粉塵、雜物、可溶性氣體污染使水質產生很大的變化,致使系統(tǒng)結垢、腐蝕和微生物大量繁殖生長,造成系統(tǒng)熱阻增大,熱交換率降低,設備腐蝕及壽命縮短,故應重視冷卻水循環(huán)過程中的水處理.

1.2循環(huán)冷卻水水質指標

  空調冷卻水在循環(huán)過程中可歸納為產生懸浮物、結垢、腐蝕和產生藻類幾方面,要使制冷機組能在一定的冷卻水水質條件下正常運行,需要通過水處理去除懸浮物,控制泥垢及結垢,控制腐蝕微生物繁殖生長.

 2.1大型冷卻水處理系統(tǒng)

  冷卻水水處理方法可分為化學法和物理法,就目前來講,大型冷卻水系統(tǒng)多采用化學方法,它包括水處理系統(tǒng)、加藥系統(tǒng)、清洗系統(tǒng)和反洗系統(tǒng)。系統(tǒng)補充水經離子交換除去硬度和鹽類結合循環(huán)水中加入阻垢劑、緩蝕劑和殺菌滅藻劑,井定期對系統(tǒng)進行清洗及反洗,形成全套的水處理技術。這種方法效果好,設備多,投資大,但延長設備壽命,運行效率高,節(jié)約能源,被國內外大公司所關注,大型空調冷卻水處理系統(tǒng)逐漸被采用,具有較廣闊的前景。

  常用的阻垢緩蝕劑有六偏磷酸鈉、氨基*叉膦酸鹽、硫酸鋅、鉬酸鈉、磷酸脂、聚丙烯酸、聚馬來酸、共聚物等,這些物品都能在水中較快地溶解起到對設備和系統(tǒng)阻垢緩蝕作用,但它們的應用特點、適用溫度、投加濃度、PH值控制范圍以及在水中的生成物有較大差異.因此應根據(jù)當?shù)氐乃|條件及運行館況合理選用。殺菌劑有多種,如次氯酸鈉、次氯酸鈣、氯、1227、臭氧、潔而滅等.但zui常用的是殺菌效果好,能與阻垢、緩蝕劑配合使用價格低廉的氯,為保證氯*殺生效果,應注意:

 ?。?)對于敞開式冷卻水系統(tǒng),加氯管道應通人冷卻塔水池水面下200mm以下,嚴禁在回水管加氯。

 ?。?)對于大型系統(tǒng)應采用連續(xù)加氯方式,對于中小型系統(tǒng)宜采用間歇式加氛方式,每次加氯間隔為2~3h。

 ?。?)加氯時,循環(huán)水的PH值宜為7~8。

  (4)合油量大的循環(huán)水不宜用氯,并應避免與銅緩蝕劑同時加入。

  (5)冷卻塔水池中的污泥要及時排除.

2.2硅酸鹽被膜水處理器

  復方硅酸鹽被膜水處理器,是一種常用的冷卻水處理裝置,它由加藥器和除污器兩部分組成,在運行過程中,其一能使金屬表面上生成一層微薄而堅韌的分子膜,有效地防止金屬表面水與陽離子及溶解氧接觸,避免了氯化腐蝕和電化學腐蝕;其二藥劑镕于水后形成的膠態(tài)負離子可吸附水中的懸浮物及鐳鎂離子.形成絮狀沉淀,因而防止了結垢。但使用時應注意:

 ?。?)循環(huán)水中的含鹽量不宜太高,過高會使硅酸鹽快速形成不均勻絮狀沉淀,降低藥效.

  (2)循環(huán)水中SO2濃度要控制。SO2濃度太低會加深腐蝕,SO2濃度過大就易產生硅酸鹽沉淀,因此SO2濃度宜控制在100—150mg/l范圍內。

 ?。?)循環(huán)水中Mg2+濃度>250mg/l時應采用硅酸鹽作緩蝕劑。

2.3電子水處理器

  電子水處理器具有安裝操作簡單、防垢除垢明顯、殺菌滅藻、不污染環(huán)境、運行費用低廉的特點,因而廣泛地應用于中、小型空調冷卻水系統(tǒng),選用時應注意:

 ?。?)水總硬度應<700mg/l(以CaCO3計)且適用產生碳酸、鹽垢類的水質,對水中的主要成分是硅酸鹽垢者不宜使用。

 ?。?)電子水處理器必須采用垂直安裝,進水口在下,出水口在上,其高頻發(fā)生器的安裝位置與大于20kW電器設備距離至少加以上,若因場地所限無法滿足該距離,應設屏蔽罩和良好的接地裝置.

  (3)使用過程中需定期排污,每年清洗電極2—4次,使用5年后表面必須重新噴涂保護膜才能使用。

  (4)電子水處理器沒有防腐蝕功能中應附加防腐劑。


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