干細胞被認為是可用于建模和修復細胞功能的qiangda和最靈活的細胞類型。目前干細胞被廣泛用于藥物篩選、細胞治療、疾病建模、毒理學和基因組編輯研究，可以說幾乎用于任何基礎和轉(zhuǎn)化研究領域。重要的是，其中許多技術(shù)依賴于將基因和/或蛋白質(zhì)成功引入干細胞，例如CRISPR/Cas9基因編輯。然而，干細胞，特別是多能干細胞（即能夠產(chǎn)生任何體細胞類型的細胞）特別難以轉(zhuǎn)染。轉(zhuǎn)染干細胞時最大的挑戰(zhàn)是細胞死亡，這在非病毒和病毒轉(zhuǎn)染遞送方法之后都有報道。此外，由于對細胞死亡的易感性和快速自我更新，干細胞的轉(zhuǎn)染效率可能低于其他細胞類型。

     為了利用基于化學轉(zhuǎn)染進行基因操作的優(yōu)勢，理想的試劑需要實現(xiàn)高轉(zhuǎn)染效率（在干細胞高于50%的情況下），同時最大限度地減少常見的干細胞細胞活力問題。

     在此，本文報道了基于化學轉(zhuǎn)染的轉(zhuǎn)染試劑jetOPTIMUS^®在三種難轉(zhuǎn)染的干細胞中的轉(zhuǎn)染效率的表現(xiàn)：間充質(zhì)干細胞（hMSCs）、小鼠胚胎干細胞（mESCs）和人類誘導多功能干細胞(hiPSCs)。JetOPTIMUS®基于陽離子聚合物，在各種原代細胞中達到DNA的高轉(zhuǎn)染效率，同時對細胞活率和形態(tài)的影響最小。此外，還評估了jetOPTIMUS對幾種市售和常用的培養(yǎng)物和底物系統(tǒng)上培養(yǎng)hPSCs的轉(zhuǎn)染效率。

結(jié)果與討論

1.jetOPTIMUS®確保原代間充質(zhì)干細胞在多次傳代時具有高轉(zhuǎn)染效率

圖1：在用jetOPTIMUS®轉(zhuǎn)染eGFP質(zhì)粒24小時后，通過流式細胞術(shù)分析評估轉(zhuǎn)染效率，該質(zhì)粒在培養(yǎng)四個后續(xù)傳代的原代人間充質(zhì)干細胞（hMSC）中。

2.jetOPTIMUS®在不影響小鼠胚胎干細胞生存能力的情況下實現(xiàn)了60%以上的轉(zhuǎn)染效率

圖2A：在原代mESCs中用jetOPTIMUS®轉(zhuǎn)染eGFP質(zhì)粒24小時后，通過流式細胞術(shù)分析評估轉(zhuǎn)染效率。

圖2B：在原代mESCs中用jetOPTIMUS®轉(zhuǎn)染eGFP質(zhì)粒24小時后，通過流式細胞術(shù)評估細胞活力。

3.jetOPTIMUS®在hiPSC中提供高達80%的轉(zhuǎn)染效率

圖3 A：用jetOPTIMUS®在hiPSC中轉(zhuǎn)染eGFP質(zhì)粒24小時后，通過流式細胞術(shù)分析評估轉(zhuǎn)染效率。

圖3B：用eGFP質(zhì)粒轉(zhuǎn)染24小時的hPSCs中的GFP表達和相應的相位圖像。

4.評估jetOPTIMUS®搭配幾種hiPSC培養(yǎng)基和底物的轉(zhuǎn)染效率

表1A：jetOPTIMUS®在用幾種商業(yè)干細胞培養(yǎng)基培養(yǎng)的hiPSC中的轉(zhuǎn)染效率從最高到zuidi。

表1B：jetOPTIMUS®在用幾種商業(yè)干細胞基質(zhì)培養(yǎng)的hiPSC中的轉(zhuǎn)染效率從最高到

轉(zhuǎn)染方法：

     質(zhì)粒pCMV_eGFP_Luc（6.4kb）編碼具有巨細胞病毒（CMV）啟動子的增強型綠色熒光蛋白（eGFP）/螢光素酶的融合蛋白，購自Clontech（#6169-1）。質(zhì)粒pEF1a_eGFP（4.9kb）編碼具有延伸因子-1α（EF1a）啟動子的eGFP，購自Ezyvec（#A626.1）。pCMV_eGFP_Luc用于轉(zhuǎn)染hMSC和mES，pEF1a_eGFP用于轉(zhuǎn)染hiPSC。

      轉(zhuǎn)染前72小時，將hMSCs接種在24孔板中，每孔12000個細胞，接種在500µL相應的細胞維持培養(yǎng)基中，并在37°C下用5%CO2孵育。對于mESCs，在轉(zhuǎn)染前24小時，將細胞以每孔20000個細胞的速度接種在500µL mES培養(yǎng)基中的24孔板中，并在37°C下用5%CO2孵育。對于hiPSC，在轉(zhuǎn)染前24小時，將細胞接種在涂有Corning®Matrigel®基質(zhì)的24孔板中，該基質(zhì)含有2 mL mTeSR培養(yǎng)基和10µM ROCK抑制劑，每孔10萬個細胞，并在37°C和5%CO2下孵育。

      對于hMSCs和hiPCS，在轉(zhuǎn)染前30分鐘，移除培養(yǎng)基并用500µL的MSCBM代替™，不添加補充物，或分別用500µL含有10µM ROCK抑制劑的hiPSCs培養(yǎng)基，將培養(yǎng)板放回培養(yǎng)箱。

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