環(huán)保在線(xiàn)
詳細(xì)介紹
M型全譜直讀光譜儀采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù)，全數(shù)字化及互聯(lián)網(wǎng)技術(shù)結(jié)合，運(yùn)用高分辯率CMOS檢測(cè)器，精密設(shè)計(jì)的氬氣吹掃系統(tǒng)，使儀器具有較高的性能、較低的成本、以及竟?fàn)幜Φ膬r(jià)格。
M2可應(yīng)用于多種材料的分析。
01 小巧、輕便、精致、可靠的儀器結(jié)構(gòu)，具有同類(lèi)型直讀光譜儀準(zhǔn)確的分析數(shù)據(jù)。
02 超小設(shè)計(jì)的光學(xué)室結(jié)構(gòu)及優(yōu)化設(shè)計(jì)的氬氣吹掃系統(tǒng)，保證紫外區(qū)元素譜線(xiàn)的透過(guò)率。
03 應(yīng)用高分辯多CMOS讀出系統(tǒng)，較低的暗電流、較好的檢出限、較高的穩(wěn)定性、較強(qiáng)的靈敏度。
04 全數(shù)字化的智能復(fù)合光源DDD技術(shù)，充分滿(mǎn)足不同基體、不同樣品以及不同元素的激發(fā)要求。
05 FPGA數(shù)據(jù)采集及以太網(wǎng)網(wǎng)絡(luò)數(shù)據(jù)傳輸技術(shù)，保證數(shù)據(jù)一致性及數(shù)據(jù)傳輸速率。
06 內(nèi)置工廠(chǎng)校正曲線(xiàn)及曲線(xiàn)擴(kuò)展技術(shù)，滿(mǎn)足不同材料的技術(shù)要求。
07互聯(lián)網(wǎng)網(wǎng)絡(luò)技術(shù)及數(shù)據(jù)云儲(chǔ)存。
08 操作簡(jiǎn)單、維護(hù)成本低、質(zhì)量可靠。
09 竟?fàn)幜Φ膬r(jià)格。
精密設(shè)計(jì)的氬氣吹掃系統(tǒng)
光室密封性強(qiáng)，可保持內(nèi)部氬氣長(zhǎng)期純凈。
光室空間優(yōu)化設(shè)計(jì)，降低氬氣消耗，有效節(jié)約產(chǎn)生成本。
低氬氣吹掃系統(tǒng)，確保光室UV波段測(cè)量環(huán)境。
光室充氬免除復(fù)雜的真空系統(tǒng)。
高分辯率CMOS檢測(cè)器實(shí)現(xiàn)全譜分析
譜線(xiàn)覆蓋了所有的重要元素，滿(mǎn)足所有基體和材料的分析。
高靈敏的紫外區(qū)檢測(cè)，對(duì)N的分析檢測(cè)更準(zhǔn)確。
可有效選擇元素靈敏線(xiàn)，保證分析的準(zhǔn)確度。
多峰擬合技術(shù)，有效消除譜線(xiàn)干擾，實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)測(cè)量。
分析軟件功能強(qiáng)大
1)基于Windows系統(tǒng)的多國(guó)語(yǔ)言的CCD全譜圖形化分析軟件，方便實(shí)用；
2)管理的控制整個(gè)測(cè)量過(guò)程及為用戶(hù)提供強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理能力和測(cè)試報(bào)告輸出能力；
3)儀器可配置多條工廠(chǎng)校正曲線(xiàn)及更多材質(zhì)分析及*解決方案；
4)軟件實(shí)現(xiàn)全譜檢測(cè)、智能扣干擾、扣暗電流、背景和噪聲的算法，提高儀器的分析能力；
5)完備的自動(dòng)系統(tǒng)診斷功能；
6)完善的數(shù)據(jù)庫(kù)管理功能，可方便查詢(xún)、匯總數(shù)據(jù)；
7)智能校正算法，保證儀器穩(wěn)定可靠；
8)完備的譜線(xiàn)信息和干擾扣除算法，保證儀器分析更為精準(zhǔn)；
9)適應(yīng)Windows操作系統(tǒng)。
主要技術(shù)參數(shù)
| 項(xiàng)目 | M2 |
| 檢測(cè)基體 | 單基體 |
| 光學(xué)系統(tǒng) | 帕型-龍格結(jié)構(gòu) |
| 光室結(jié)構(gòu) | 充氬方式 |
| 波長(zhǎng)范圍 | 165-580nm |
| 光柵焦距 | 150mm |
| 光柵刻線(xiàn) | 3600條/mm |
| 探 測(cè) 器 | 多CMOS檢測(cè)器 |
| 光源類(lèi)型 | 可編程脈沖數(shù)字光源 |
| 儀器尺寸 | 643*450*270 |
| 儀器重量 | 30Kg |
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