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測(cè)量范圍	1	類(lèi)型	數(shù)字式

日本filmetrics膜厚測(cè)量系統(tǒng)F20

一種行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)、低價(jià)、多功能的臺(tái)式薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)，已在安裝了 5,000 多臺(tái)。它可用于從研發(fā)到制造現(xiàn)場(chǎng)在線測(cè)量的廣泛應(yīng)用。
F20基于光學(xué)干涉法可在1秒左右輕松測(cè)量透明或半透明薄膜的膜厚、折射率和消光系數(shù)。
它還支持多點(diǎn)在線測(cè)量，并支持RS-232C和TCP/IP等外部通訊，因此可以通過(guò)PLC或上位機(jī)進(jìn)行控制。

主要特點(diǎn)

支持廣泛的膜厚范圍（1 nm 至 250 μm）
支持寬波長(zhǎng)范圍（190nm 至 1700nm）
強(qiáng)大的膜厚分析
光學(xué)常數(shù)分析（折射率/消光系數(shù)）
緊湊的外殼
支持在線測(cè)量

日本filmetrics膜厚測(cè)量系統(tǒng)F20

主要應(yīng)用

平板	單元間隙、聚酰亞胺、ITO、AR膜、各種光學(xué)膜等。
半導(dǎo)體	抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等
光學(xué)鍍膜	防反射膜、硬涂層等
薄膜太陽(yáng)能電池	CdTe、CIGS、非晶硅等
引	砷化鋁鎵（AlGaAs）、磷化鎵（GaP）等
醫(yī)療的	鈍化、藥物涂層等

產(chǎn)品陣容

模型	F20-UV	F20	F20-近紅外	F20-EXR	F20-UVX
測(cè)量波長(zhǎng)范圍	190 – 1100nm	380 – 1050nm	950 – 1700nm	380 – 1700nm	190 – 1700nm
膜厚測(cè)量范圍	1nm – 40μm	15nm – 70μm	100nm – 250μm	15nm – 250μm	1nm – 250μm
準(zhǔn)確性*	± 0.2% 薄膜厚度		± 0.4% 薄膜厚度	± 0.2% 薄膜厚度
準(zhǔn)確性*	1納米	2納米	3納米	2納米	1納米
測(cè)量光斑直徑	支持高達(dá)1.5 毫米或 0.5 毫米小 0.1 毫米（可選）
光源	氘· 鹵素	鹵素			氘· 鹵素

* Filmometry 提供的測(cè)量 Si 基板上的 SiO2 膜時(shí)器件主體的精度。

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