應用背景

X射線衍射技術是研究材料結構的重要實驗工具，其結果能為功能材料的設計和改性提供重要的理論依據(jù)，而樣品制備的質量直接影響XRD譜圖效果，如由于不當制樣可引起的實驗數(shù)據(jù)誤差，給結果分析帶來巨大挑戰(zhàn)。因此，了解XRD樣品的觀測要求、制備過程，提高樣品制備質量，可以為XRD實驗起到事半功倍的效果。

X射線衍射（XRD）技術可應用于多種樣品類型的分析，包括粉末、塊狀、薄膜和纖維等。樣品不同、分析目的不同，采取的樣品制備方法不同，特別是微量樣品的制備，因其對精確度和靈敏度的要求，一直是XRD分析中備受關注的焦點。

應用案例

本文將對不同質量的微量LaB6樣品進行測試并作數(shù)據(jù)對比，以驗證界FRINGE微量樣品臺測試微量樣品的可行性。

(1)測試參數(shù)

(2)樣品制備

制樣方法：制備微量樣品須選用微量樣品架，且將微量粉末樣品分散在樣品架中心；極微量樣品可用不溶的易揮發(fā)溶劑分散，如乙醇或丙酮等，使粉末成為薄層漿液狀，均勻地涂布開來，形成一個單顆粒層的厚度就可以，待乙醇或丙酮揮發(fā)至干即可進行測量。本次微量樣品臺由3D打印和硅片組成，將微量粉末樣品放到樣品臺中央，滴1-2滴酒精或其它揮發(fā)溶劑滴到粉末上，并用工具將其盡量均勻攤開，不能有肉眼可見的突起。

測試分組：①硅片襯底、②5 mg LaB6、③10 mg LaB6、④20 mg LaB6、⑤50 mg LaB6、⑥100 mg LaB6、⑦普通玻片制樣。

(3)測試結果及數(shù)據(jù)分析

a.測試圖譜 

圖1. 硅片襯底的XRD圖譜

圖2. 微量樣品臺加載5 mg LaB6樣品的XRD圖譜

圖3. 微量樣品臺加載10 mg LaB6樣品的XRD圖譜

圖4. 微量樣品臺加載20 mg LaB6樣品的XRD圖譜

圖5. 微量樣品臺加載50 mg LaB6樣品的XRD圖譜

圖6. 微量樣品臺加載100 mg LaB6樣品的XRD圖譜

圖7. 普通玻片制備LaB6樣品的XRD圖譜

圖8. 六組樣品疊加XRD圖譜

b.數(shù)據(jù)對比

c.結論

（1）硅片襯底的圖譜在5~90°范圍內不存在衍射峰，且背景線較為平整。

（2）由表1可知，在樣品量增加到50mg時，峰高值達到最大，50mg組與普通玻片制樣組進行對比可知，兩者峰高近似，普通玻片峰位偏差較小，僅有0.023。由以上分析可以推測，微量樣品臺可以對50mg以下樣品進行測試。