污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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更新時(shí)間：2022-07-07 15:40:49瀏覽次數(shù)：411次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線(xiàn)新機(jī)型紫外可見(jiàn)近紅外分光光度計(jì)V-700 series擁有多種機(jī)型、根據(jù)用途可以選擇。
紫外可見(jiàn)分光光度計(jì) / 紫外可見(jiàn)近紅外分光光度計(jì) V-700 series
▼概要
| V-730 | V-750 | V-760 | V-770 | V-780 | |
| 光學(xué)系 | Rowlａnd 圓外配置 單單色器 雙光束 | 切爾尼-特納(Czerny-Turner)光學(xué)系統(tǒng) 單單色器，雙光速方式 | 切爾尼-特納(Czerny-Turner)光學(xué)系 統(tǒng) 雙單色器，雙光束方式 | 切爾尼-特納(Czerny-Turner)光學(xué) 系統(tǒng) 單單色器 雙光束方式 | 切爾尼-特納(Czerny-Turner)光學(xué) 系統(tǒng) 單單色器 雙光束方式 |
| 光源 | 鹵素?zé)? 氘燈(光源波長(zhǎng)切換: 可以選擇 330 至350 nm 的任何波長(zhǎng)) | ||||
| 檢測(cè)器 | 硅光電二極管 | 硅光電二極管 | 硅光電二極管 帕爾帖冷卻PbS | 硅光電二極管 帕爾帖冷卻InGaAs | |
| 波長(zhǎng)范圍 | 190 到 1100 nm | 190 到 900 nm | 187到 900 nm | 190 到2700 nm (3200 nm,選配) | 190 到 1600 nm |
| ±0.2 nm (656.1 nm) | ±0.2 nm (656.1 nm) | ±0.1 nm (656.1 nm) | ±0.3 nm (656.1 nm) ±1.5 nm (1312.2 nm) | ±0.3 nm (656.1 nm) ±1.0 nm ( 1312.2 nm) | |
| 波長(zhǎng)重復(fù)性 | ±0.1 nm | ±0.05 nm | ±0.05 nm | ±0.05 nm (UV-Vis) ±0.2 nm (NIR) | ±0.05 nm (UV-Vis) ±0.1 nm (NIR) |
| 波長(zhǎng)掃描速度 | 10 到 8000 nm/min | 10 到4000 nm/min (8000 nm/min in preview mode) | |||
| 掃描速度 | 24000 nm/min | 12000 nm/min | UV-Vis: 12000 nm/min NIR: 48000 nm/min | UV-Vis: 12000 nm/min NIR: 24000 nm/min | |
| 光譜帶寬 (SBW) L: l低雜散光方式 M: 微型池方式 | 1.0 nm fixed | 0.1, 0.2, 0.5, 1, 2, 5, 10 nm L2, L5, L10 nm M1, M2 nm | UV-Vis: 0.1, 0.2, 0.5, 1, 2, 5, 10 nm L2, L5, L10 nm M1, M2 nm NIR: 0.4, 0.8, 1, 2, 4, 8, 20, 40 nm L8, L20, L40 nm M4, M8 nm | UV-Vis: 0.1, 0.2, 0.5, 1, 2, 5, 10 nm L2, L5, L10 nm M1, M2 nm NIR: 0.2, 0.4, 0.5, 1, 2, 4, 10, 20 nm L4, L10, L20 nm M2, M4 nm | |
| 測(cè)光范圍 | -3 到 3 Abs | -4 到 4 Abs | -4 到 6 Abs | UV-Vis: -4 到 4 Abs NIR: -3 到 3 Abs | UV-Vis: -4 到 4 Abs NIR: -3 到 3 Abs |
| 測(cè)光準(zhǔn)確性 | ±0.0015 Abs (0 to 0.5 Abs) ±0.0025 Abs (0.5 to 1 Abs) ±0.3 %T Tested with NIST SRM 930 | ||||
| 噪音*1 | 0.00004 Abs | 0.00003 Abs | 0.00003 Abs | 0.00003 Abs | 0.00003 Abs |
| 基線(xiàn)平坦度 | ±0.0005 Abs *2 | ±0.0002 Abs *3 | ±0.0003 Abs *4 | ±0.0002 Abs *5 | ±0.0002 Abs *6 |
| ±0.0004 Abs/hour *7 | ±0.0003 Abs/hour *8 | ||||
| 雜散光 | 1 % (198 nm KCl 12 g/L) 0.02 % (220 nm NaI 10 g/L) 0.02 % (340 nm NaNO2 50 g/L) 0.02 % (370 nm NaNO2 50 g/L) 水溶液 SBW: 1.0 nm | 1 % (198 nm KCl 12 g/L) 0.005 % (220 nm NaI 10 g/L) 0.005 % (340 nm NaNO2 50 g/L) 0.005 % (370 nm NaNO2 50 g/L) 水溶液, SBW: L2 nm | 1 % (198 nm KCl 12 g/L) 0.00008% (220 nm NaI 10 g/L) 0.00008% (340 nm NaNO2 50 g/L) 0.00008% (370 nm NaNO2 50 g/L) 水溶液, SBW: L2 nm | 1 % (198 nm KCl 12 g/L) 0.005 % (220 nm NaI 10 g/L) 0.005 % (340 nm NaNO2 50 g/L) 0.005 % (370 nm NaNO2 50 g/L) 水溶液 SBW: L2 nm 0.04% (1420 nm: H2O) 0.1%(1690 nm: CH2Br2 50 mm cell) SBW: L8 nm | 1 % (198 nm KCl 12 g/L) 0.005 % (220 nm NaI 10 g/L) 0.005 % (340 nm NaNO2 50 g/L) 0.005 % (370 nm NaNO2 50 g/L) 水溶液, SBW: L2 nm 0.04 % (1420 nm: H2O) SBW: L4 nm |
| 尺寸 | 486(W)x441(D)x216(H) mm 15 kg | 460(W)x602(D)x268(H) mm 27 kg | 460(W)x602(D)x268(H) mm 29 kg | 460(W)x602(D)x268(H) mm 29 kg | 460(W)x602(D)x268(H) mm 29 kg |
| 電源 | 120 VA | 150 VA | 150 VA | 150 VA | 150 VA |
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