污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
無錫旭能環(huán)保設(shè)備有限公司
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無錫旭能環(huán)保設(shè)備有限公司
產(chǎn)品型號(hào)XN-CC-5T
品 牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地無錫市
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更新時(shí)間：2023-01-05 09:28:29瀏覽次數(shù)：728次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線| 濾料類型 | 生物膜 | 適用對(duì)象 | 真空鍍膜行業(yè) |
|---|---|---|---|
| 外形尺寸 | 250*180*180mm | 用途 | 真空鍍膜 |
| 有效過濾面積 | 0.5㎡ | 主體材質(zhì) | 不銹鋼 |
| 額定壓力 | 380 |
超純水設(shè)備適用于電子行業(yè)如顯像管玻殼、顯像管、單晶硅半導(dǎo)體、印刷線路板、液晶顯示器、光盤、計(jì)算器硬盤、集成電路芯片等清洗用水。
EDI超純水設(shè)備
EDI(Electro-de-ionization,continuouselectro-de-ionzation)又被稱為CDI和連續(xù)電除鹽。該技術(shù)是二十世紀(jì)八十年代以來逐漸興起的新技術(shù)。經(jīng)過十幾年的發(fā)展EDI在歐美等國己普遍使用，且占據(jù)了相當(dāng)部分的超純水市場(chǎng)。在國內(nèi)此項(xiàng)技術(shù)的應(yīng)用在起步階段,有蓬勃發(fā)展的態(tài)勢(shì)。EDI廣泛地應(yīng)用于電子、電力、生物、制藥、化工等諸多領(lǐng)域，是傳統(tǒng)離子交換混床工藝的佳取代技術(shù)。EDI的出現(xiàn)是水處理技術(shù)的一次革命性的進(jìn)步，標(biāo)志著水處理工業(yè)全面跨入綠色產(chǎn)業(yè)的行列。
工作原理
陜西鹿鳴水處理技術(shù)有限公司生產(chǎn)的EDI設(shè)備是將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開，形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽電極。在直流電的推動(dòng)下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng),成為濃水。EDI設(shè)備一 般以反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電阻率-般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)18MΩ.cm(25℃),但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。
工作流程
1、采用離子交換樹脂制備超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為:原水→沙炭過濾器一>精密過濾器- →原水箱一 陽床- >陰床- →混床-→純水箱→純水泵-→后置精密過濾器一→用水點(diǎn)。
2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合的方式，其基本工藝流程為:原水- +沙炭過濾器- +精密過濾器- +原水箱- +反滲透設(shè)備- >混床+純水箱- +純水泵-后置精密過濾器→用水點(diǎn)。
3、采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進(jìn)行搭配的方式，這是一種制取超純水的新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?，其基本工藝流程?原水→沙炭過濾器→精密過濾器+原水箱一 反滲透設(shè)備→電去離(EDI) -→純水箱→純水泵+后置精密過濾器→ 用水點(diǎn)。
設(shè)備特點(diǎn)
1.可連續(xù)生產(chǎn)，產(chǎn)水電阻率高≥15MΩ.cm, 產(chǎn)水率可以高達(dá)95%，產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定。不需要配酸堿再生。
2.無污水產(chǎn)生，系統(tǒng)控制自動(dòng)化程度高，操作簡(jiǎn)單，勞動(dòng)強(qiáng)度低
3.連續(xù)運(yùn)行，產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定，無需酸堿再生，利于環(huán)保。
4.產(chǎn)水率高，占地面積小，操作簡(jiǎn)單，容易實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制。
5.性能穩(wěn)定，維修工作量小;運(yùn)行維護(hù)成本低。
應(yīng)用范圍
適用于電子行業(yè)如顯像管玻殼、顯像管、單晶硅半導(dǎo)體、印刷線路板、液晶顯示器、光盤、計(jì)算器硬盤、集成電路芯片等清洗用水。
技術(shù)參數(shù)
操作壓力: 3(Mpa)
水電阻率: 5-18.25兆歐，出水量: 1-100t/h
外形尺寸: 設(shè)計(jì)而定(cm)，電壓: 380 (V)
卜水質(zhì): 高純水
功率:設(shè)計(jì)而定(w)
電導(dǎo)率: 10us/cm，脫鹽率: 99.99(%)
單機(jī)出力: 1-100t/h
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