芯片清洗超純水設(shè)備的優(yōu)勢分析
　　芯片清洗超純水設(shè)備采用*的配置原件，保證了設(shè)備的出水質(zhì)量，滿足了不同行業(yè)的用水需求，芯片清洗超純水設(shè)備水質(zhì)穩(wěn)定，技術(shù)，海德能水處理設(shè)備公司提供芯片清洗超純水設(shè)備的詳細(xì)介紹。
　　一、芯片清洗超純水設(shè)備的優(yōu)勢分析
　　1、工藝的設(shè)計細(xì)微周到，元件的材質(zhì)、性能、設(shè)計的流量、流速、壓力等均符合國家的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范及國外材料商的規(guī)定要求。
　　2、制水過程高度自動化，自動進(jìn)水，自動制水，純水箱滿水自動停機(jī)，用水后自動恢復(fù)，可*實現(xiàn)無人值守的運行。
　　3、可選用可編程控制(PLC)，計算機(jī)觸摸屏控制，遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)采集及監(jiān)控等*技術(shù)，使產(chǎn)品更具現(xiàn)代化特色。
　　二、芯片清洗超純水設(shè)備的工藝流程
　　1、采用兩級反滲透方式，其流程如下：
　　原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→級反滲透→PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點
　　2、采用EDI方式，其流程如下：
　　原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點
　　3、采用離子交換方式，其流程如下：
　　原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點

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