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二維材料設(shè)備CVD系統(tǒng)（型號：BTF-1200C-II-SL-CVD） 實驗室臭氧發(fā)生機
設(shè)備特點此款CVD系統(tǒng)前端配有可加熱到400℃的預(yù)加熱器，輔助二維材料蒸發(fā)，后端為雙溫區(qū)管式爐，溫度控制精確，操作簡便
BT-200標(biāo)準(zhǔn)漏斗法金屬粉末流動性測定儀 雷達料位計
一、產(chǎn)品簡介：BT-200標(biāo)準(zhǔn)漏斗法金屬粉末流動性測定儀（霍爾流速計）是丹東百特儀器有限公司研制的用于測試金屬粉末流動性的儀器
雙獨立爐膛滑動滑軌爐BTF-1200C-II-SSL-CVD 實驗室臭氧發(fā)生機
主要特點1.此款設(shè)備提供兩個獨立滑動的溫場，兩溫場獨立控制，每個溫場的加熱區(qū)的長度為230mm，可在實驗過程中推進或推離樣品，提供兩個位置的快升降溫
流化床—化學(xué)氣相沉積法可控及批量制備碳納米管設(shè)備 實驗室臭氧發(fā)生機
設(shè)備簡介：流化床—化學(xué)氣相沉積法可控及批量制備碳納米管設(shè)備，該設(shè)備包括有：自動加液裝置、超聲波霧化發(fā)生裝置、氣體供應(yīng)裝置、氣體流量控制裝置、三溫區(qū)流化床反應(yīng)器及...
復(fù)合氧化物氫分離膜制備用CVD設(shè)備 實驗室臭氧發(fā)生機
主要特點復(fù)合氧化物氫分離膜制備用CVD設(shè)備，可以實現(xiàn)在多孔氧化鋁陶瓷管和陶瓷片上化學(xué)沉積上氧化物（SiO2、Al2O3、TiO2、ZrO2）和復(fù)合氧化物（Al2...
高真空自動循環(huán)設(shè)備（型號：BTF-1200C-HV） 實驗室臭氧發(fā)生機
主要特點該款設(shè)備由我公司和新疆理化技術(shù)研究所共同研制的高真空自動循環(huán)設(shè)備，內(nèi)外雙熱電偶控制，內(nèi)熱電偶制動，使用者可以設(shè)定設(shè)備循環(huán)溫度點，可根據(jù)內(nèi)熱電偶測得的溫度...
低真空CVD系統(tǒng) (BTF-1500C-3ZL) 實驗室臭氧發(fā)生機
設(shè)備特點此款CVD系統(tǒng)是由多通道高精度的質(zhì)量流量計、低真空機組以及1500度高溫管式爐組成
低真空CVD系統(tǒng)（BTF-1200C-III-SL-4ZL） 實驗室臭氧發(fā)生機
低真空CVD系統(tǒng)（BTF-1200C-III-SL-4ZL）
雙溫區(qū)磁力拉桿設(shè)備BTF-1200C-II-SL 實驗室臭氧發(fā)生機
主要特點此設(shè)備具有兩個獨立的溫場，溫場之外配有磁力拉桿和石英料舟，并配有內(nèi)探熱電偶，可實現(xiàn)在實驗過程中將固態(tài)源（如硫粉、硒粉等）推進熱場，并同時可檢測溫度
智能型雙溫區(qū)等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(型號：BTF-1200C-II-AS-500A) 實驗室臭氧發(fā)生...
主要特點：一、此設(shè)備的高溫真空電阻爐溫度控制系統(tǒng)采用經(jīng)典的閉環(huán)負(fù)反饋控制系統(tǒng)，控溫儀表選用智能型程序溫度調(diào)節(jié)儀表控溫，電力調(diào)制器控制；負(fù)載采用小電壓大電流控制，...
三溫區(qū)智能型等離子體化學(xué)沉積系統(tǒng)（BTF-1200C-III-500A-PECVD） 實驗室臭氧發(fā)生...
主要特點：此款智能型等離子體增強化學(xué)沉積系統(tǒng)的高溫真空爐加熱腔體采用進口氧化鋁纖維制品，其極低的熱導(dǎo)率和比熱容，保證了爐膛的快速升溫和低蓄熱，特別適合于制備大面...
連續(xù)進出料等離子體增強回轉(zhuǎn)設(shè)備-BTF-1200C-RP-PECVD 實驗室臭氧發(fā)生機
主要特點該款設(shè)備是全自動Plasma增強CVD系統(tǒng)（PECVD）
回轉(zhuǎn)PECVD BTF-1200C-R-PECVD 實驗室臭氧發(fā)生機
主要特點：本款設(shè)備可以做金屬復(fù)合石墨烯材料，是目前Z的金屬復(fù)合材料制備設(shè)備
PECVD-500A/PECVD-S-150A 等離子輝光滑軌PECVD系統(tǒng) 實驗室臭氧發(fā)生機
實驗機理PECVD是借助于輝光放電等方法產(chǎn)生等離子體，輝光放電等離子體中：1,電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍，...請輸入賬號
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