中顯微電子20噸/小時(shí)超純水設(shè)備系統(tǒng)工程項(xiàng)目安裝調(diào)試完成，與中顯一期（一期超純水設(shè)備也是益民產(chǎn)）的處理水量是一樣，工藝采用也是反滲透+混床，設(shè)備是為了滿足深圳市中顯微電子有限公司黃山工廠生產(chǎn)工藝用高純水項(xiàng)目。超純水水量20  m3/h，出水水質(zhì)大于17MΩ.cm 。

超純水設(shè)備系統(tǒng)制備的主要技術(shù)參數(shù)

1.前處理產(chǎn)水量 :                  ≥26.7m3/h；

2.反滲透純水設(shè)備系統(tǒng)產(chǎn)水量 :      ≥20m3/h；

3.超純水設(shè)備混床系統(tǒng)產(chǎn)水量 :      ≥20m3/h；

4.產(chǎn)水水質(zhì)指標(biāo)  20m3/h     ≥17 MΩ·cm （參照國標(biāo)EW-Ⅱ）

5.供水壓力   0.35Mpa

6.溫度：     常溫；

超純水設(shè)備系統(tǒng)配置：預(yù)處理、反滲透、混床除鹽裝置。

供水方式連續(xù)產(chǎn)出（24小時(shí)運(yùn)行）

超純水設(shè)備系統(tǒng)設(shè)計(jì)依據(jù)
1.本電子工業(yè)純水站工程項(xiàng)目設(shè)計(jì)依據(jù)如下：
2.原水水質(zhì)分析資料；
3.高純水的品質(zhì)要求（產(chǎn)品水水質(zhì)指標(biāo)），以及相關(guān)國家標(biāo)準(zhǔn)；
4.高純水的生產(chǎn)規(guī)模;
5.用戶對系統(tǒng)整體水準(zhǔn)要求。

超純水設(shè)備系統(tǒng)布局
預(yù)處理部分、反滲透部分、混床部分、17M供水部分集中放置在*水站。為保證高純水的水質(zhì)和水量，將整個(gè)水處理系統(tǒng)置于PLC控制下運(yùn)行，并適時(shí)監(jiān)控。

超純水設(shè)備系統(tǒng)工藝流程圖