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激光粒度儀遮光率范圍
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關(guān) 鍵 詞 | 激光粒度儀,培養(yǎng)箱,鼓風(fēng)干燥箱,電子分析天平,離心機(jī) |
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激光粒度儀遮光率范圍
遮光率可定義為顆粒在光束中的遮光截面與光束總面積之比,使用中常由被顆粒散射和吸收掉的光占輸出光總量(扣除背景散射)的百分比表示。因此遮光率又稱光學(xué)濃度。具體計(jì)算方法是用激光透過(guò)純凈介質(zhì)后探測(cè)器中心點(diǎn)的光強(qiáng)與加入樣品后探測(cè)器中心點(diǎn)的光強(qiáng)的差除以光強(qiáng),通常激光粒度儀的遮光率在百分之十到十五之間。
光學(xué)濃度與顆粒的體積百分比濃度不同,前者與顆粒大小有關(guān),顆粒越小,比表面積越大,遮光能力就越強(qiáng)。因此,體積濃度相同的兩種樣品中,較小顆粒在激光粒度儀中會(huì)顯示更大的光學(xué)濃度。
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