光電除臭設(shè)備的除臭過程

【資料簡介】

　　一、光電除臭設(shè)備利用特制的高能高臭氧UV紫內(nèi)線光束照耀氣體物質(zhì)分子鍵，裂化惡臭氣體物質(zhì)如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，氯化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的成員鍵，使呈調(diào)離形態(tài)的凈化物原子團與臭氧氧化聚合成小分子無害或低害物質(zhì)，如CO2、H2O等。
 

　　二、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而生成臭氧；UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)，臭氧與呈游離狀態(tài)污染物質(zhì)原子聚合，生成新的、無害或低害物質(zhì)，如CO2、H2O等，同時，臭氧對有機物具有較強的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有良好的清除效果。
 

　　三、惡臭氣體(工業(yè)廢氣)利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本UV光解凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同裂解、氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外。
 

　　四、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸(DNA)，再通過臭氧進行氧化反應(yīng)，*達到脫臭及殺滅細菌的目的。
 

　　五、光電除臭設(shè)備實用范疇：煉油廠、橡膠廠、化工場、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。