北京同德創(chuàng)業(yè)科技有限公司作者
使用雜質(zhì)濃度測(cè)試儀的方法
資料類(lèi)型 | jpg文件 | 資料大小 | 29537 |
下載次數(shù) | 4 | 資料圖片 | 【點(diǎn)擊查看】 |
上 傳 人 | 北京同德創(chuàng)業(yè)科技有限公司 | 需要積分 | 0 |
關(guān) 鍵 詞 | 雜質(zhì)濃度測(cè)試儀,測(cè)試儀,濃度測(cè)試儀,直銷(xiāo)濃度測(cè)試儀,*濃度測(cè)試儀 |
- 【資料簡(jiǎn)介】
雜質(zhì)濃度測(cè)試儀
產(chǎn)品型號(hào): KDB-1A
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
原理:根據(jù)硅、鍺單晶的遷移率、電阻率和雜質(zhì)濃度的關(guān)系,可直接測(cè)量、計(jì)算出晶體內(nèi)的雜質(zhì)濃度。
范圍:它適合于測(cè)量橫截面尺寸是可測(cè)量的,而且棒的長(zhǎng)度大于橫截面線度的有規(guī)則的長(zhǎng)棒,例如橫斷面為圓形、正方形、長(zhǎng)方形或梯形的單晶或多晶錠。
用途:根據(jù)測(cè)量沿錠長(zhǎng)雜質(zhì)濃度的分布狀況決定產(chǎn)品的合格部分,通過(guò)雜質(zhì)濃度的直接測(cè)量,決定晶體生長(zhǎng)過(guò)程中的摻雜數(shù)量。
樣品可在常溫或低溫下測(cè)量。
顯示方式:儀器連接PC機(jī),通過(guò)測(cè)試軟件計(jì)算,用對(duì)數(shù)坐標(biāo)的方式來(lái)顯示雜質(zhì)濃度(含次方數(shù))沿錠長(zhǎng)的分布曲線,可對(duì)曲線圖進(jìn)行打印和保存。
測(cè)量范圍: 可測(cè)晶體電阻率:0.005-3000Ω·cm。
直流數(shù)字電壓表測(cè)量范圍:0-199.99mV,靈敏度:10μA。
2024世環(huán)會(huì)【工業(yè)節(jié)能與環(huán)保展】

div6月3日,2024世環(huán)會(huì)【工業(yè)節(jié)能與環(huán)保展】于上海丨國(guó)家會(huì)展中[詳細(xì)]
- 凡本網(wǎng)注明"來(lái)源:環(huán)保在線"的所有作品,版權(quán)均屬于環(huán)保在線,轉(zhuǎn)載請(qǐng)必須注明環(huán)保在線,http://www.niunang.cn。違反者本網(wǎng)將追究相關(guān)法律責(zé)任。
- 企業(yè)發(fā)布的公司新聞、技術(shù)文章、資料下載等內(nèi)容,如涉及侵權(quán)、違規(guī)遭投訴的,一律由發(fā)布企業(yè)自行承擔(dān)責(zé)任,本網(wǎng)有權(quán)刪除內(nèi)容并追溯責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其它來(lái)源的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)或證實(shí)其內(nèi)容的真實(shí)性,不承擔(dān)此類(lèi)作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品來(lái)源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問(wèn)題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。