大氣低溫等離子體炬表面處理機

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更新時間：2021-12-22 11:49:20瀏覽次數(shù)：379次

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南京蘇曼等離子科技有限公司

經營模式：生產廠家

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所在地區(qū)：江蘇南京市

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產品簡介

大氣低溫等離子體炬表面處理機低溫等離子體中粒子的能量一般約為幾個至幾十電子伏特，大于聚合物材料的結合鍵能(幾個至十幾電子伏特)，*可以破裂有機大分子的化學鍵而形成新鍵；但遠低于高能放射性射線，只涉及材料表面，不影響基體的性能

詳細介紹

大氣低溫等離子體炬表面處理機

低溫等離子體中粒子的能量一般約為幾個至幾十電子伏特，大于聚合物材料的結合鍵能(幾個至十幾電子伏特)，*可以破裂有機大分子的化學鍵而形成新鍵；但遠低于高能放射性射線，只涉及材料表面，不影響基體的性能。處于非熱力學平衡狀態(tài)下的低溫等離子體中，電子具有較高的能量，可以斷裂材料表面分子的化學鍵，提高粒子的化學反應活性(大于熱等離子體)，而中性粒子的溫度接近室溫，這些優(yōu)點為熱敏性高分子聚合物表面改性提供了適宜的條件。通過低溫等離子體表面處理，材料表面發(fā)生多種的物理、化學變化，或產生刻蝕而粗糙，或形成致密的交聯(lián)層，或引入含氧極性基團，使親水性、粘結性、可染色性、生物相容性及電性能分別得到改善。在適宜的工藝條件下處理材料表面，使材料的表面形態(tài)發(fā)生了顯著變化，引入了多種含氧基團，使表面由非極性、難粘性轉為有一定極性、易粘性和親水性，有利于粘結、涂覆和印刷。

CTD-2000F

低溫等離子體噴射效果圖

CTD-2000F

大氣低溫等離子體炬處理系統(tǒng)

CTD-2000F大氣低溫等離子體炬處理系統(tǒng)在電路設計上采用了微處理器技術（MCU）使設備實現(xiàn)了全軟件控制。設備使用簡單，安全可靠，全自動保護，一鍵式操作。

主要技術指標

1.用途：印刷、涂覆、膠結、粘貼和材料表面的親水改性；
2.輸出功率：1000VA
3.主機尺寸：250(W)×200(H)×360(D)mm；
4.主機重量：12kg；
5.處理寬度：60～80mm；
6.電源：AC220V（±10%）
7.環(huán)境：
8.溫度：－10℃～+40℃
9.相對濕度： 20%～80%
10.大氣壓力： 86～106Kpa

保護特性:過熱保護、噴槍無風源保護、噴槍失效保護、噴槍高壓開路、短路保護、噴槍和主機起火保護。

主要應用領域：手機外殼、筆記本電腦、汽車保險杠、安全氣囊等各種ABS、PC材料的客體噴涂前的表面預處理。

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