趙輝
經理
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針對不同使用環(huán)境的 化學過濾器
在半導體生產過程中，不僅微小的顆粒甚至是極其微量的化學污染也會降低產品的合格率。
因此，半導企業(yè)通過安裝高效率的化學過濾器，實現潔凈的生產環(huán)境。
我司生產的，能夠有效地去除半導體工廠中的AMCs物質。
AMCs？
AMCsAirbome molecular contamination ） 是半導體生產當中各種化學污染物質的統(tǒng)稱（有機，堿性，酸性氣體）。
特點：
1．去除效率高達90%以上
2．使用壽命長
3．精良的制造技術，安裝方便
4．一條龍服務（從附著劑加添，產品組裝到安裝）
5．可以按照客戶的要求設計過濾器
適用范圍：
1．半導體，LCD等超精密制造工藝
2．惡臭以及有害氣體容易產生的地方
3．醫(yī)院，博物館公共場所等對空氣環(huán)境要求高的場所
主要產品：
1．● CAFILDEX® PL系列
| 規(guī)格 | CAFILDEX PL系列 |
| 大小 （W*L*D/mm） | 610*610*150T （接受非標定做） |
| 效率（%） | < 90 |
| 速度 （m/s） | ~ 2.5 |
| 差壓（mmAq） | ~ 15.0 |
| 媒介 | IER, IAC, IA,吸附劑 |
| 框架 | AL, GI, SUS |
| 適用對象 | FFU, EFU, MAU, RAU |
| 目標氣體 | NH3, tAcid, VOCs |
2．● CAFILDEX® TY系列
| 規(guī)格 | CAFILDEX TY系列 |
| 大小 （W*L*D/mm） | 610*610*450T （接受非標定做） |
| 效率（%） | < 90 |
| 速度 （m/s） | ~ 2.5 |
| 差壓（mmAq） | ~ 15.0 |
| 媒介 | IER, IAC, IA,吸附劑 |
| 框架 | AL, GI, SUS |
| 適用對象 | MAU, RAU |
| 目標氣體 | NH3, tAcid, VOCs |
3．● CAFILDEX® CE 系列
| 規(guī)格 | CAFILDEX® CE系列 |
| 大小 （W*L*D/mm） | 572*1167*55T （接受非標定做） |
| 效率（%） | < 90 |
| 速度 （m/s） | ~ 0.45 |
| 差壓（mmAq） | ~ 3.0 |
| 媒介 | IER, IAC, IA, 吸附劑 |
| 框架 | AL, GI, SUS |
| 適用對象 | FFU, EFU, MAU, RAU |
| 目標氣體 | NH3, tAcid, VOCs |
4．● CAFILDEX® BT 系列
| 規(guī)格 | CAFILDEX BT系列 |
| 大小 （W*L*D/mm） | 640*640*470 （接受非標定做） |
| 效率（%） | < 90 |
| 速度 （m/s） | ~ 0.45 |
| 差壓（mmAq） | ~ 3.0 |
| 媒介 | IER, IAC, IA,吸附劑 |
| 框架 | AL, GI, SUS |
| 適用對象 | FFU |
| 目標氣體 | NH3, tAcid, VOCs |
5
● CAFILDEX® SW系列
| 規(guī)格 | CAFILDEX SW系列 |
| 大小 （W*L*D/mm） | 610*610*200T （接受非標定做） |
| 效率 （%） | < 90 |
| 速度 （m/s） | ~ 2.5 |
| 差壓（mmAq） | ~ 15 |
| 媒介 | IER, IAC, IA,吸附劑 |
| 框架 | AL, GI, SUS |
| 適用對象 | FFU, EFU, MAU, RAU |
| 目標氣體 | NH3, tAcid, VOCs |
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