天津中環(huán)電爐股份有限公司
會(huì)員1.png)
詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品用途：此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)真空淬火退火，快速降溫等工藝實(shí)...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2021-11-02 在線留言
詳細(xì)摘要： PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2021-11-02 在線留言
詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品用途：此款CVD生長(zhǎng)系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實(shí)驗(yàn)。
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2021-11-02 在線留言
詳細(xì)摘要： PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2021-11-02 在線留言
詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品用途：此款CVD系統(tǒng)是專門為在金屬箔上生長(zhǎng)薄膜而設(shè)計(jì)，特別是應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究，通過滑動(dòng)爐實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻。
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2021-11-02 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
環(huán)保在線 設(shè)計(jì)制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請(qǐng)輸入賬號(hào)
請(qǐng)輸入密碼
請(qǐng)輸驗(yàn)證碼
