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顯現(xiàn)管清洗處理用超純水設(shè)備工作原理

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顯現(xiàn)管清洗處理用超純水設(shè)備工作原理  顯現(xiàn)管清洗處理用超純水設(shè)備整體采用預(yù)處理裝置、反滲透裝置、EDI裝置以及相關(guān)附加裝置,處理后的水質(zhì)可以顯現(xiàn)管清洗處理用水要求。
顯現(xiàn)管清洗處理用超純水設(shè)備工作原理
  顯現(xiàn)管清洗處理用超純水設(shè)備整體采用預(yù)處理裝置、反滲透裝置、EDI裝置以及相關(guān)附加裝置,處理后的水質(zhì)可以顯現(xiàn)管清洗處理用水要求。隨著技術(shù)的不斷提高,顯現(xiàn)管清洗處理用超純水設(shè)備的應(yīng)用范圍也越來越廣。
  顯現(xiàn)管清洗處理用超純水設(shè)備工作原理
  顯現(xiàn)管清洗處理用超純水設(shè)備:水進(jìn)入EDI系統(tǒng),主要部分流入樹脂/膜內(nèi)部,而另一部分沿模板外側(cè)流動(dòng),以洗去透出膜外的離子。樹脂截留水中的溶存離子。被截留的離子在電極作用下,陰離子向正極方向運(yùn)動(dòng),陽離子向負(fù)極方向運(yùn)動(dòng)。陽離子透過陽離子膜,排出樹脂/膜之外。陰離子透過陰離子膜,排出樹脂/膜之外。濃縮了的離子從廢水流路中排出。無離子水從樹脂/膜內(nèi)流出。

  顯現(xiàn)管清洗處理用超純水設(shè)備主要用途
  1、超純材料和超純試劑的生產(chǎn)和清洗
  2、電子產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗
  3、電池產(chǎn)品的生產(chǎn)
  4、半導(dǎo)體產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗
  5、電路板的生產(chǎn)和清洗
  6、其他高科技精細(xì)產(chǎn)品的生產(chǎn)
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