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半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備工作原理簡(jiǎn)介

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半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備工作原理簡(jiǎn)介  海德能北京水處理公司生產(chǎn)的半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備,隨著技術(shù)的不斷提高,應(yīng)用的范圍比較廣泛,滿足了不同行業(yè)的用水需求,下面對(duì)半導(dǎo)體
半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備工作原理簡(jiǎn)介
  海德能北京水處理公司生產(chǎn)的半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備,隨著技術(shù)的不斷提高,應(yīng)用的范圍比較廣泛,滿足了不同行業(yè)的用水需求,下面對(duì)半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備做了一個(gè)簡(jiǎn)單的介紹。
  一、半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備工作原理
  EDI裝置將離子交換樹脂充夾在陰/陽(yáng)離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如下圖所示。EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開,形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽(yáng)電極。在直流電的推動(dòng)下,通過(guò)淡水室水流中的陰陽(yáng)離子分別穿過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除。而通過(guò)濃水室的水將離子帶出系統(tǒng),成為濃水.EDI設(shè)備一般以反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電導(dǎo)率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)18MΩ.cm(25℃),但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置,EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。

  二、半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備制備工藝
  1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)。(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
  2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)。(≥18MΩ.CM)(工藝)
  3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)。(≥17MΩ.CM)(工藝)
  4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)。(≥15MΩ.CM)(工藝)
  5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)。(≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
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