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超g分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000

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更新時間：2023-09-25 08:18:57瀏覽次數(shù)：236次

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產品簡介

產品說明：產品介紹日立2011年新推出了SU9000特點： 2. Hitachi專*設計的EB系統(tǒng)，可以自由控制SE和BSE檢測信號。 4. *新物鏡設計顯著提高低加速電壓條件下的圖像分辨率。 6. 與FIB兼容的側...

詳細介紹

日立2011年新推出了超g分辨冷場發(fā)射掃描電鏡SU9000，達到掃描電鏡電子分辨率0.4nm和STEM分辨率0.34nm。日立SU9000采取了*新改進的真空系統(tǒng)和電子光學系統(tǒng)，不僅分辨率性能明顯提升，而且作為一款冷場發(fā)射掃描電鏡甚至不需要傳統(tǒng)意義上的Flashing操作，可以*效率的快速獲取樣品超g分辨掃描電鏡圖像。

特點：

1. 新型電子光學系統(tǒng)設計達到掃描電鏡世*高分辨率：二次電子0.4nm（30KV），STEM 0.34nm（30KV）。

2. Hitachi的E×B系統(tǒng)，可以自由控制SE和BSE檢測信號。

3. 全*真空技術設計使得SU9000冷場發(fā)射電子束具有超穩(wěn)定和高亮度特點。

4. *新物鏡設計顯著提高低加速電壓條件下的圖像分辨率。

5. STEM的明場像能夠調整信號檢測角度，明場像、暗場像和二次電子圖像可以同時顯示并拍攝照片。

6. 與FIB兼容的側插樣品桿提高更換樣品效率和高倍率圖像觀察效率。

應用領域：

1. 半導體器件

2. 高分子材料

3. 納米材料

4. 生命科學

技術參數(shù)