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GVC-2000TD高真空磁控離子濺射儀

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更新時間：2023-11-07 10:42:45瀏覽次數(shù)：1034次

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北京格微儀器有限公司

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產(chǎn)品簡介

描述產(chǎn)品優(yōu)勢：?可制備各種金屬、單質(zhì)、無機非金屬薄膜?不破真空情況下

詳細介紹

描述

產(chǎn)品優(yōu)勢：

? 可制備各種金屬、單質(zhì)、無機非金屬薄膜

? 不破真空情況下，可實現(xiàn)多層復合膜制備

? 一鍵操作，全自動控制，智能化程度高

? 一致性、重復性好

? 內(nèi)置多重靶材工作參數(shù)，無需摸索鍍膜工藝

? 體積小，結構緊湊，非常節(jié)約空間

產(chǎn)品參數(shù)：

外形尺寸（主機）	424(L)×345(D)×420(H)	輸入電源	220V/50Hz 1000W
濺射靶頭 1	直流磁控濺射	可用靶材	金屬靶材
濺射靶頭 2	射頻磁控濺射	可用靶材	無機非金屬靶材
真空系統(tǒng)	渦輪分子泵+旋片式真空泵	抽速	90L/s + 1.1L/s
真空測量	復合式真空規(guī)	量程范圍	1E-3 ~ 1E5Pa
真空室	φ 200×130mm 高硼硅玻璃	抽氣節(jié)拍	10 分鐘（≤5E-3Pa）
樣品臺尺寸	φ 90mm	樣品臺切換	自動控制
濺射靶材尺寸	φ 57mm（厚度 0.1-2mm）	工作真空	0.1-2Pa
操作界面	7 英寸 TFT 觸摸式液晶屏	操作語言	中文（可選其它語言）
冷水機	小型臺式制冷機	冷水機功率	180W
預濺射擋板	標配全自動控制預濺射擋板
膜厚儀（選配）	可實時顯示鍍膜厚度，并通過設定來控制鍍膜過程，測量精度 0.01nm，設定精度 0.1nm，單次設定范圍 1-999nm
溫控組件（選配）	樣品臺加熱模塊 300℃/500℃
旋轉組件（選配）	傾斜旋轉、行星旋轉等
小車（選配）	將主機、射頻電源、冷水機等組裝在一起，整體性好
安裝環(huán)境	220V/10A 三孔插座一個、純度 4N 及以上的高純氬氣（出口壓力 0.12MPa）