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SE-VE光譜橢偏儀

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地深圳市

聯(lián)系方式：蕭先生查看聯(lián)系方式

更新時間：2024-06-03 08:25:15瀏覽次數(shù)：235次

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經(jīng)營模式：其他

商鋪產(chǎn)品：14條

所在地區(qū)：

聯(lián)系人：蕭先生

產(chǎn)品簡介

SE-VE光譜橢偏儀 本設備基于單旋轉補償器調(diào)制技術一次性獲取Psi/Delta、N/C/S、反射率等光譜，可實現(xiàn)基底上單層到多層薄膜的膜厚、光學常數(shù)的快速分析表征。

詳細介紹

SE-VE光譜橢偏儀

  本設備基于單旋轉補償器調(diào)制技術一次性獲取Psi/Delta、N/C/S、反射率等光譜，可實現(xiàn)基底上單層到多層薄膜的膜厚、光學常數(shù)的快速分析表征。


1、 橢偏儀測頭規(guī)格：

1) 光譜范圍：400-800nm

2) 入射角：65°

3) 光斑大?。?/font>200μm

4) 調(diào)制技術：PCRSA調(diào)制技術

5) 重復性測量精度：0.01nm（100nm 硅基SiO2樣件，30次重復測量）

6) 膜厚測量范圍：0.1nm—20μm

7) 單點測量時間：＜5s

8) 光源：高性能進口鹵素燈光源（鹵素燈壽命：2,000h）

9) 可視化樣品顯微對準系統(tǒng)

2、 樣品臺規(guī)格：

1) 基板尺寸：支持樣件尺寸到Ф180mm

2) Z軸位移行程：0-10mm

3) 樣件臺俯仰角度：> ±2°

 

3、 測控與分析軟件

1) 光譜測量能力：PSI/DELTA橢偏光譜、N/C/S光譜、反射率光譜測量

2) 數(shù)據(jù)分析能力：具備單層、多層膜厚、光學常數(shù)（折射率、消光系數(shù)）分析能力

3) 支持常用光學常數(shù)模型以及常用振子模型（柯西模型、洛倫茲模型、高斯模型等），并支持圖形化多振子混合模型擬合功能

4) 支持多組分薄膜與體材料光學常數(shù)、組分比例分析功能； 核心算法包含嚴格耦合波模型、等效介質(zhì)模型

      5）支持用戶自定義，軟件不限制拷貝數(shù)量，支持windows10操作系統(tǒng)


關鍵詞：橢偏儀 補償器
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