一、產(chǎn)品概述
水平式爐管清洗機(jī)是專(zhuān)為半導(dǎo)體、光伏、LED等行業(yè)設(shè)計(jì)的清洗設(shè)備，針對(duì)高溫爐管（如石英、碳化硅、石墨）內(nèi)壁的氧化物、金屬顆粒、有機(jī)物殘留等污染物，提供自動(dòng)化、高精度的清洗解決方案。其水平布局設(shè)計(jì)優(yōu)化了長(zhǎng)管件（長(zhǎng)度可達(dá)2米以上）的清洗均勻性，避免傳統(tǒng)垂直清洗易導(dǎo)致的液體滯留或局部腐蝕問(wèn)題，廣泛應(yīng)用于擴(kuò)散爐、氧化爐、退火爐等關(guān)鍵設(shè)備的維護(hù)，確保爐管壽命及工藝穩(wěn)定性。
二、核心技術(shù)與原理
多模式復(fù)合清洗技術(shù)
高壓噴淋：通過(guò)高精度噴嘴陣列，對(duì)爐管內(nèi)壁進(jìn)行360°全覆蓋沖刷，剝離松散附著的顆粒與厚層沉積物。
化學(xué)腐蝕：配置酸性/堿性清洗液（如HF、HNO?、NH?OH），溶解頑固氧化物（如SiO?）及金屬雜質(zhì)（Fe、Al、Cu等），配合溫度控制（20~120℃）加速反應(yīng)。
超聲波空化：兆聲波（1MHz以上）強(qiáng)化微米級(jí)顆粒的剝離，尤其適用于深孔、狹縫等復(fù)雜結(jié)構(gòu)。
機(jī)械刷洗（可選）：軟質(zhì)毛刷或海綿棒旋轉(zhuǎn)擦拭，去除頑固殘留，避免劃傷爐管表面。
智能化工藝控制
參數(shù)自適應(yīng)：根據(jù)爐管材質(zhì)（石英/SiC/石墨）、污染類(lèi)型（顆粒/金屬/有機(jī)物）自動(dòng)匹配清洗液濃度、溫度及時(shí)間。
實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)：集成顆粒計(jì)數(shù)器、pH/ORP傳感器、濁度儀，動(dòng)態(tài)調(diào)整清洗強(qiáng)度，確保污染物清除。
數(shù)據(jù)追溯：記錄每批次清洗參數(shù)（如流量、溫度曲線(xiàn)），生成清洗報(bào)告，滿(mǎn)足ISO/SEMI標(biāo)準(zhǔn)要求。
環(huán)保與安全設(shè)計(jì)
廢液閉環(huán)處理：化學(xué)液循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng)減少耗材消耗，中和后排放符合環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。
惰性氣體保護(hù)（可選）：氮?dú)獯祾叻乐姑舾胁牧希ㄈ缡┭趸С忠兹既軇┑陌踩褂谩?/p>
防腐蝕結(jié)構(gòu)：槽體采用PFA/PTFE涂層，閥門(mén)與泵體選用耐腐蝕材料（如哈氏合金），延長(zhǎng)設(shè)備壽命。
三、核心優(yōu)勢(shì)
高效均勻清洗
水平旋轉(zhuǎn)+往復(fù)運(yùn)動(dòng)設(shè)計(jì)，確保長(zhǎng)爐管（如3米石英管）內(nèi)壁覆蓋，潔凈度一致性達(dá)95%以上。
單次清洗周期＜40分鐘，較手工清洗效率提升5倍以上，支持24小時(shí)連續(xù)運(yùn)行。
超高精度潔凈度
顆粒殘留＜5顆/cm2（≥0.1μm），金屬污染控制在ppb級(jí)（如Fe＜0.1ppb），滿(mǎn)足制程（如3nm芯片）對(duì)爐管純度的要求。
清洗后表面粗糙度Ra＜0.2μm，避免因劃痕導(dǎo)致晶圓沾污或熱場(chǎng)不均。
廣泛兼容性
適用管徑范圍50~400mm，長(zhǎng)度0.5~3米，兼容石英、碳化硅、陶瓷等多種材質(zhì)爐管。
支持定制化工藝：如低溫（40℃）清洗光敏材料爐管，或高溫（150℃）處理重污染石墨件。
四、應(yīng)用場(chǎng)景
半導(dǎo)體制造：擴(kuò)散爐、氧化爐石英爐管的周期性清洗，防止雜質(zhì)擴(kuò)散影響芯片電性能。
光伏行業(yè)：多晶硅還原爐碳化硅內(nèi)襯的清潔，提升硅料純度與電池片轉(zhuǎn)換效率。
LED外延生長(zhǎng)：MOCVD反應(yīng)腔石英部件的維護(hù)，避免殘留物導(dǎo)致波長(zhǎng)偏移或良率下降。
科研實(shí)驗(yàn)：高校及研究所的長(zhǎng)晶爐、CVD爐管清洗，滿(mǎn)足高精度實(shí)驗(yàn)重復(fù)性需求。
會(huì)員1.png)
