蘇州芯矽電子科技有限公司
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詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體芯片清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于去除晶圓表面污染物（如顆粒、氧化物、金屬殘留）的關(guān)鍵設(shè)備，通過(guò)物理或化學(xué)方法確保芯片表面潔凈度，直接影響良率與性能。其核心功能...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-27 在線留言
詳細(xì)摘要： 去蠟濕法清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于高效去除晶圓表面蠟狀污染物（如光刻膠、助劑殘留）的關(guān)鍵設(shè)備，通過(guò)化學(xué)濕法與物理輔助技術(shù)結(jié)合實(shí)現(xiàn)精密清潔。其核心采用有機(jī)溶劑或酸堿...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-27 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于去除晶圓表面污染物（如顆粒、氧化物、金屬殘留）的關(guān)鍵設(shè)備，通過(guò)物理或化學(xué)方法確保芯片表面潔凈度，直接影響良率與性能。其核心功能包括...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-27 在線留言
詳細(xì)摘要： 濕法EKC清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于高效去除晶圓表面污染物的關(guān)鍵設(shè)備，其核心通過(guò)化學(xué)濕法工藝結(jié)合機(jī)械作用實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)清潔。設(shè)備采用多槽式設(shè)計(jì)，依次完成酸洗（如HF溶液...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-27 在線留言
詳細(xì)摘要： BOE腐蝕機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于精準(zhǔn)去除晶圓表面氧化層（如SiO?、SiN?）的關(guān)鍵設(shè)備，基于緩沖氧化物刻蝕液（HF與NH?F混合溶液）的化學(xué)濕法工藝，實(shí)現(xiàn)各向同...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-27 在線留言
詳細(xì)摘要： 水平式爐管清洗機(jī)專為半導(dǎo)體、光伏等行業(yè)設(shè)計(jì)，通過(guò)高壓噴淋、化學(xué)腐蝕與超聲波協(xié)同作用，高效清除爐管內(nèi)壁的氧化物、顆粒及金屬殘留。其核心優(yōu)勢(shì)在于水平布局，便于長(zhǎng)管件...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-26 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體超聲波清洗機(jī)是一種專為高精度清洗設(shè)計(jì)的設(shè)備，利用高頻超聲波空化效應(yīng)清除晶圓、掩膜版及精密工具表面的亞微米級(jí)顆粒、有機(jī)物和金屬污染物。其核心優(yōu)勢(shì)包括無(wú)損清洗...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-26 在線留言
詳細(xì)摘要： 蘇州半導(dǎo)體清洗設(shè)備以技術(shù)、自動(dòng)化程度高和定制化服務(wù)為特點(diǎn)，在行業(yè)內(nèi)占據(jù)重要地位。其核心產(chǎn)品包括單片清洗機(jī)、槽式清洗設(shè)備及石英清洗機(jī)等，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光伏等領(lǐng)...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-26 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備是芯片制造中用于去除晶圓表面污染物（如顆粒、有機(jī)物、金屬離子及氧化物）的關(guān)鍵工藝設(shè)備，通過(guò)濕法化學(xué)、兆聲波、等離子體等技術(shù)實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)潔凈度。...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-26 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體清洗設(shè)備是芯片制造中的關(guān)鍵工藝設(shè)備，通過(guò)化學(xué)或物理方法去除晶圓表面的污染物（如光刻膠、顆粒、金屬殘留及氧化物）。其核心技術(shù)包括濕法清洗（如SC-1、SC-...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-26 在線留言
詳細(xì)摘要： RCA清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于晶圓表面潔凈處理的核心設(shè)備，基于標(biāo)準(zhǔn)RCA工藝（SC-1硫酸/雙氧水去有機(jī)物、SC-2氫氟酸去氧化層），通過(guò)化學(xué)濕法結(jié)合兆聲波或噴...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： 酸腐蝕清洗機(jī)是一種用于金屬、半導(dǎo)體及精密部件表面處理的濕法化學(xué)設(shè)備，通過(guò)酸性溶液（如硫酸、鹽酸、硝酸或混酸）去除氧化層、銹蝕、焊后殘留及微觀污染物。其核心優(yōu)勢(shì)包...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： 晶圓清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵工藝設(shè)備，用于去除晶圓表面的顆粒、有機(jī)物、金屬污染及氧化層等污染物，確保后續(xù)制程的良率與可靠性。其技術(shù)涵蓋濕法化學(xué)清洗（如硫酸/...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： 去膠清洗機(jī)是半導(dǎo)體、光電等領(lǐng)域關(guān)鍵設(shè)備，用于去除光刻膠、聚合物等殘留物。其技術(shù)涵蓋化學(xué)濕法清洗（如硫酸/雙氧水配方）、超聲波空化剝離及等離子干法去膠，可針對(duì)晶圓...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： 片盒清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于清潔晶圓承載盒（如FOUP）的專用設(shè)備，旨在去除片盒表面的顆粒、有機(jī)物及工藝殘留物，確保晶圓傳輸過(guò)程中的潔凈度。其核心功能包括自動(dòng)化...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： BOE濕法清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于晶圓表面氧化層刻蝕與清潔的關(guān)鍵設(shè)備，通過(guò)化學(xué)濕法工藝實(shí)現(xiàn)高效潔凈處理。廣泛應(yīng)用于光刻、刻蝕后清洗及TSV三維封裝前處理，適配硅...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-19 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體爐管清洗機(jī)是用于去除石英/陶瓷爐管表面化學(xué)殘留、顆粒及氧化層的專用設(shè)備，核心目標(biāo)為恢復(fù)爐管潔凈度以保證擴(kuò)散、氧化等工藝的穩(wěn)定性。其采用高純度去離子水（DI...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-19 在線留言
詳細(xì)摘要： 芯片清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于去除晶圓表面顆粒、有機(jī)物及化學(xué)殘留的關(guān)鍵設(shè)備，確保納米級(jí)潔凈度（Class 10級(jí)）。采用高純度去離子水（DI水，電阻率≥18.2M...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-19 在線留言
詳細(xì)摘要： 最終清洗機(jī)是半導(dǎo)體制程中確保晶圓/爐管表面納米級(jí)潔凈的關(guān)鍵設(shè)備，專為去除化學(xué)殘留、顆粒及有機(jī)物設(shè)計(jì)。采用高純度去離子水配合兆聲波震蕩，實(shí)現(xiàn)無(wú)損傷清洗；集成離心干...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-19 在線留言
詳細(xì)摘要： 槽式清洗機(jī)是一種用于批量清洗物品的自動(dòng)化設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、電子、光學(xué)等領(lǐng)域。它通過(guò)將待清洗物品放入盛有特定化學(xué)試劑的槽中，利用超聲波在液體中的空化作用產(chǎn)生...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-13 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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