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產(chǎn)品型號(hào)JS
品 牌雋思
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地上海
更新時(shí)間:2023-12-25 16:21:20瀏覽次數(shù):1176次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線HMDS預(yù)處理機(jī)H-2 智能HMDS真空烘箱
材質(zhì) | 不銹鋼 | 工作室尺寸 | 980mm |
---|---|---|---|
功率 | 4000 | 加工定制 | 是 |
類型 | 恒溫 | 適用范圍 | 太陽能、半導(dǎo)體、集成電路 |
溫度范圍 | 200℃ | 重量 | 390kg |
光伏電池片HMDS處理系統(tǒng),HMDS預(yù)處理烘箱的作用:
電池片制備是光伏電池片生產(chǎn)中的核心環(huán)節(jié),主要包括光刻、擴(kuò)散、沉積和金屬化等工藝步驟
1.光刻:光刻工藝主要利用光刻膠和掩膜將所需的電極圖案投影到硅片表面,并通過曝光和顯影等過程形成圖案。
2.擴(kuò)散:擴(kuò)散工藝通過高溫將摻雜物(如磷或硼)注入硅片中,形成PN結(jié)構(gòu),從而使其具有正負(fù)電荷分離的能力。
3.沉積:沉積工藝主要是在硅片表面進(jìn)行氧化、硝化或硫化等處理,形成適當(dāng)?shù)碾姵仄砻娼Y(jié)構(gòu)和保護(hù)層
4.金屬化:金屬化工藝將電極材料(如鋁或銀)通過蒸鍍、濺射或印刷等方法沉積在電池片表面作為電流收集和傳輸?shù)膶?dǎo)體。
光刻中第一步需要表面預(yù)處理,就是涂膠前要進(jìn)行增粘處理。由于襯底表面吸水特性,使疏水的光刻膠無法與親水的晶圓表面結(jié)合良好。未經(jīng)過HMDS表面處理的晶圓在后道工藝中容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。
光伏電池片HMDS處理系統(tǒng),HMDS預(yù)處理烘箱技術(shù)參數(shù)
主要方法:氣相沉積
工藝步驟:HMDS烘箱在高溫條件下,達(dá)到真空狀態(tài)后開始涂布工藝,涂布完成后烘箱內(nèi)部充入N2,排出尾氣,達(dá)到常壓后方可開門。
溫度范圍:RT+10-200℃
真空度:≤1torr
控制儀表:人機(jī)界面,自動(dòng)運(yùn)行
儲(chǔ)液瓶:標(biāo)配
真空泵:無油渦旋真空泵
數(shù)據(jù)處理:多個(gè)工藝方案,可修改并記錄,使用數(shù)據(jù)可記錄
保護(hù)裝置: 低液位報(bào)警,HMDS藥液泄漏報(bào)&警,超溫保護(hù)并斷開加熱,漏電保護(hù),過流保護(hù)等
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