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上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第10年

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圖像翻轉(zhuǎn)烘箱，光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備

參   考   價(jià): ￥ 89680

訂  貨  量: ≥1 臺(tái)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)

品       牌雋思

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地上海市

更新時(shí)間：2024-10-09 11:36:14瀏覽次數(shù)：896次

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圖像翻轉(zhuǎn)烘箱，光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備主要用于剝離過(guò)程，特別是在柔性電極、電極的制作以及其他一些MEMS器件工藝中。通過(guò)底切側(cè)壁形態(tài)，可以防止沉積的材料在光刻膠邊緣和側(cè)壁上形成連續(xù)薄膜，有助于獲得干凈的剝離光刻膠結(jié)構(gòu)。

 圖像翻轉(zhuǎn)烘箱，光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備工藝原理：

    光刻圖形反轉(zhuǎn)是一種特殊的工藝，用于制作?半導(dǎo)體器件。在曝光結(jié)束后，光刻膠中的圖像與想要得到的圖像是相反的，即曝光區(qū)域在顯影后會(huì)形成孔洞而不是島區(qū)。這種工藝主要用于制作孔洞結(jié)構(gòu)，通過(guò)改變曝光區(qū)域和非曝光區(qū)域的相對(duì)分解率來(lái)實(shí)現(xiàn)。

圖像翻轉(zhuǎn)烘箱，光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備的應(yīng)用：

    光刻圖形反轉(zhuǎn)工藝主要用于剝離過(guò)程，特別是在柔性電極、電極的制作以及其他一些MEMS器件工藝中。通過(guò)底切側(cè)壁形態(tài)，可以防止沉積的材料在光刻膠邊緣和側(cè)壁上形成連續(xù)薄膜，有助于獲得干凈的剝離光刻膠結(jié)構(gòu)。

光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備的性能：

尺寸(可定制)

內(nèi)腔尺寸:450寬×450深×450高(mm)，外形尺寸:760×750×1500 (mm)

  材質(zhì)

內(nèi)箱采用SUS304不銹鋼，外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板靜電噴塑

溫度范圍

RT+50-250℃

溫度分辨率

0.1℃

溫度波動(dòng)度

≤±1℃

操作模式

人機(jī)界面

升溫速率

≤5℃/min

氣體

2路供氣

真空度

0.1~100KPa

電源及總功率 

AC220V±10% / 50HZ       總功率約2.8KW

溫度控制器

觸摸屏微電腦溫控器，可校準(zhǔn)溫度，PID 自整定等功能

擱板層數(shù)

不銹鋼托盤2層

真空泵

渦旋干泵

腔門密封圈

采用耐高溫硅橡膠密封圈，密封圈采用一體成型無(wú)縫加工


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