北京中科復(fù)華科技有限公司作者
高分辨深紫外光刻機(jī)
資料類型 | pdf文件 | 資料大小 | 1070383 |
下載次數(shù) | 0 | 資料圖片 | 【點(diǎn)擊查看】 |
上 傳 人 | 北京中科復(fù)華科技有限公司 | 需要積分 | 0 |
關(guān) 鍵 詞 | 深紫外光刻機(jī),瑞士高分辨光刻機(jī) |
- 【資料簡(jiǎn)介】
- PHABLE設(shè)備基于Eulitha采用的位移塔爾博特光刻(DTL)技術(shù),通過低成本的光刻系統(tǒng)提供高分辨率光刻。DTL克服了傳統(tǒng)光刻中衍射的局限性,可曝光出質(zhì)量?jī)?yōu)異的亞微米周期圖案。非接觸式曝光可同時(shí)保護(hù)掩模版和晶圓,無聚焦成像技術(shù)可實(shí)現(xiàn)在非平面基材和厚光刻膠上進(jìn)行均勻曝光。
PhableR具備以低成本光刻系統(tǒng)曝光高分辨率周期性結(jié)構(gòu)的能力。它類似于傳統(tǒng)的紫外曝光機(jī),將涂有光刻膠的晶圓接近掩模版,然后用一束紫外深紫外光照射。由于Eulitha的突破性PHABLE曝光技術(shù),分辨率不再受到不希望出現(xiàn)的衍射效應(yīng)的限制。如亞微米周期線性光柵和二維圖案等結(jié)構(gòu)(如六方和四方晶格曝光),均具有高均勻性和保真度。
應(yīng)用廣泛,包括:
學(xué)術(shù)(R&D)
XR (AR / VR /MR)
光電子學(xué)
光學(xué)元件
生物/醫(yī)學(xué)
色彩/視覺效果
光刻技術(shù)服務(wù)
2024世環(huán)會(huì)【工業(yè)節(jié)能與環(huán)保展】

div6月3日,2024世環(huán)會(huì)【工業(yè)節(jié)能與環(huán)保展】于上海丨國(guó)家會(huì)展中[詳細(xì)]
- 凡本網(wǎng)注明"來源:環(huán)保在線"的所有作品,版權(quán)均屬于環(huán)保在線,轉(zhuǎn)載請(qǐng)必須注明環(huán)保在線,http://www.niunang.cn。違反者本網(wǎng)將追究相關(guān)法律責(zé)任。
- 企業(yè)發(fā)布的公司新聞、技術(shù)文章、資料下載等內(nèi)容,如涉及侵權(quán)、違規(guī)遭投訴的,一律由發(fā)布企業(yè)自行承擔(dān)責(zé)任,本網(wǎng)有權(quán)刪除內(nèi)容并追溯責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其它來源的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)或證實(shí)其內(nèi)容的真實(shí)性,不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。