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詳細(xì)摘要： 三靶射頻磁控濺射鍍膜儀配有磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源，此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜，特別是一些氧化物薄膜。

詳細(xì)摘要： 等離子磁控濺射鍍膜儀系列儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼可旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，其與濺射頭之間距離可調(diào)

詳細(xì)摘要： 1200℃小型井式爐（9L）系列 加熱元件：摻鉬鐵鉻鋁（表面涂有氧化鋯涂層，可以*程度延長(zhǎng)使用壽命）；

詳細(xì)摘要： 1650℃布里奇曼單晶生長(zhǎng)爐系列此設(shè)備適合于生長(zhǎng)各種金屬，氧化物等晶體，也和作為多晶棒定向凝固使用。

詳細(xì)摘要： 高溫高壓鎳基合金水熱反應(yīng)釜 65/100ml系列鋁制散熱器安裝于殼體上，托住爐管，并帶有風(fēng)冷系統(tǒng),可有效降低法蘭溫度

詳細(xì)摘要： 混合式小型晶體生長(zhǎng)爐系列是一款小型晶體生長(zhǎng)爐，適用于提拉法或布里奇曼法生長(zhǎng)單晶，其zui高溫度可達(dá)1100℃。

詳細(xì)摘要： 三溫區(qū)頂部籽晶助溶劑法單晶生長(zhǎng)爐系列溫控系統(tǒng)可設(shè)置28段溫度程序段，控溫精度±1℃和精密旋轉(zhuǎn)提拉機(jī)構(gòu)，其提拉速度為0.8-50mm/hour.

詳細(xì)摘要： 1600℃ TSSG法晶體生長(zhǎng)爐系列采用氧化鋁纖維作為爐膛材料，以MoSi2為加熱元件，其腔體尺寸為φ330mm×250mm（H），zui高溫度可達(dá)1...

詳細(xì)摘要： 4電弧提拉法單晶生長(zhǎng)爐系列真空度可達(dá)10-5Torr.此款單晶爐特別適合生長(zhǎng)高熔點(diǎn)的單晶，如Ti單晶，YSZ，SiC和CeRh2Si等等。

詳細(xì)摘要： 1700℃小型單晶生長(zhǎng)爐系列是一款小型提拉法單晶生長(zhǎng)爐，其zui高溫度可達(dá)1700℃?？捎糜谏L(zhǎng)GGG,YAG，LaALO3等各種單晶，用于材料的基礎(chǔ)研究。

詳細(xì)摘要： SKJ-VE2000火焰法單晶生長(zhǎng)爐系列是一款小型火焰法單晶生長(zhǎng)爐，其溫度可以高達(dá)2000℃。

詳細(xì)摘要： SKJ-LCZ懸浮提拉晶體生長(zhǎng)爐系列懸浮熔煉避免了坩堝的污染，可得到高純度的金屬（合金）單晶。

詳細(xì)摘要： SKJ-CZ-250小型提拉機(jī)構(gòu)此設(shè)備專門用于DIY各種單晶生長(zhǎng)設(shè)備，如提拉法單晶爐（CZ）、頂部籽晶助溶劑法（TSSG）等等。

詳細(xì)摘要： SKJ-50CZ晶體生長(zhǎng)爐系列是一款高質(zhì)量的CZ晶體生長(zhǎng)爐，可針對(duì)于材料的實(shí)驗(yàn)探索，也可以適用于晶體材料的生產(chǎn)。

詳細(xì)摘要： OTF-1200X-50-DSL定向CVD生長(zhǎng)爐系列是一款水平滑軌爐，其爐管直徑為Φ50mm,爐體滑動(dòng)速度可以根據(jù)實(shí)驗(yàn)需要而設(shè)置

詳細(xì)摘要： VBF-1200X-TSSG晶體生長(zhǎng)爐系列一款頂部籽晶法晶體生長(zhǎng)爐，可利用助溶劑法生長(zhǎng)各種材料單晶。

詳細(xì)摘要： 1200℃雙溫區(qū)管式爐系列兩個(gè)溫區(qū)分別由兩個(gè)獨(dú)立的溫控系統(tǒng)來控制，而且都為PID30段程序化控溫。

詳細(xì)摘要： 2000℃控溫感應(yīng)加熱爐系列是一款較大型高溫感應(yīng)加熱/熔煉爐系統(tǒng)，配用30KW感應(yīng)加熱器，8.5英寸（216mm）石英管

詳細(xì)摘要： 300ml鎳基合金高溫高壓反應(yīng)釜系列是一款300ml的高溫高壓反應(yīng)釜，采用鎳基高溫合金鋼制作，其具*的蠕變強(qiáng)度和抗氧化性。

詳細(xì)摘要： 1200℃坩堝可移動(dòng)型管式爐系列是一款坩堝可在爐管內(nèi)移動(dòng)（靠步進(jìn)電機(jī)控制）的小型開啟式管式爐。爐管外徑為50mm,設(shè)備zui高工作溫度為1200℃。