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當(dāng)前位置:北京中科復(fù)華科技有限公司>>刻蝕設(shè)備>>反應(yīng)離子刻蝕>> DISC-RIE-601/801/1201反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE)
DISC-RIE-601/801/1201
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北京市
更新時(shí)間:2025-05-16 16:07:42瀏覽次數(shù):279次
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應(yīng)用方向:科研與教學(xué)
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):刻蝕速率控制方便,耐氯基強(qiáng)腐蝕氣體,帶雙片送取樣室(Load-Lock)
產(chǎn)品配置:
★樣片數(shù)量及尺寸:1片Ф6英寸
★刻蝕材料:包括并不限于單晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、聚合物等
★刻蝕腔體:高真空系統(tǒng)
★Load-Lock:低真空系統(tǒng) 或 高真空系統(tǒng)。雙片裝,樣品自動(dòng)運(yùn)送。
★刻蝕不均勻性:±3%-±6%
★刻蝕速率:0.1-4μm/min(視具體材料與工藝)
★工作臺(tái):可升降,包含水冷
★電源配置:下電偏壓,包含自動(dòng)匹配
★氣路數(shù)量與種類:6路氣路,其中2路耐腐蝕VCR焊接 或 用戶選配
★He冷背吹系統(tǒng):可選配
★終點(diǎn)檢測(cè)控制:可選配質(zhì)譜儀
★操作模式:全自動(dòng)+半自動(dòng)控制
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