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德國(guó) SURFACE sm@rt500 同時(shí)具有最大性能、靈活性、可靠性、可用性和速度。在納米力學(xué)特性測(cè)試方面提供更高水平的非凡性能、增強(qiáng)的功能的多功能性。sm...

截止到2008年1月，ABM公司在世界范圍售出了500多臺(tái)光刻機(jī)，50多臺(tái)單獨(dú)曝光系統(tǒng)?？蛻?hù)包括美國(guó)NSA和INTEL、哈佛大學(xué)、LG、菲利普、惠普、3M等，A...

磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽(yáng)極（鍍膜室壁） 之間施加幾百K 直流電壓，在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電，使氬氣發(fā)生電離。

是一種在沉積腔室利用輝光放電使其電離后在襯底上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)沉積的半導(dǎo)體薄膜材料制備和其他材料薄膜的制備方法

感應(yīng)耦合等離子體刻蝕系統(tǒng)利用射頻天線(xiàn)，通過(guò)感應(yīng)耦合方式在放電腔中產(chǎn)生高密度等離子體，同時(shí)刻蝕工作臺(tái)引入射頻偏壓，射頻偏壓作用下，等離子體中垂直向下對(duì)被刻蝕材料表...

反應(yīng)離子腐蝕技術(shù)是一種各向異性很強(qiáng)、選擇性高的干法腐蝕技術(shù)。它是在真空系統(tǒng)中利用分子氣體等離子來(lái)進(jìn)行刻蝕的，利用了離子誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)來(lái)實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕，即是利用離...

PicoMaster ATE-100 采用波長(zhǎng)405納米二極管激光器，擁有300納米激光分辨率，可升級(jí)為375納米激光源，以更好地兼容市面上I-line光刻膠材...

杜邦™plasmasolv®ekc270™蝕刻后殘留物去除,接觸清潔 , 金屬線(xiàn)清潔,TSV深硅穿孔清潔等

EKC265™蝕刻后殘留物器廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體行業(yè)，以滿(mǎn)足關(guān)鍵的清潔需求從高深寬比MEMS器件100μm+到DRAM 的70nm集成的各個(gè)階段

SI 500 PPD是電容平板式PECVD等離子沉積設(shè)備，主要用于SiO2，SiOxNy，SiNy，a-Si，SiC薄膜的沉積 。適用于2“--8“樣片的薄膜沉...

SI 500D等離子沉積系統(tǒng)是ICP-PECVD設(shè)備，利用ICP高密度等離子源來(lái)沉積電介質(zhì)薄膜?？稍跇O低溫度下( 100ºC)沉積高質(zhì)量SiO2, S...

SENTECH感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(jī)SI 500是一款由SENTECH（德國(guó)）公司研發(fā)并生產(chǎn)的電感耦合等離子體（ICP）干法刻蝕系統(tǒng)。該產(chǎn)品以其高精度、低損傷、高...

SENTECH儀器（德國(guó)）有限公司是國(guó)際主流的半導(dǎo)體設(shè)備商，研發(fā)、制造和銷(xiāo)售先進(jìn)的薄膜測(cè)量?jī)x器PECVD和等離子工藝設(shè)備.

桌面小型化無(wú)掩模光刻機(jī)是一種先進(jìn)的光刻技術(shù)設(shè)備，它不需要使用傳統(tǒng)的物理掩膜版來(lái)轉(zhuǎn)移電路圖形，而是通過(guò)計(jì)算機(jī)控制的高精度光束直接在感光材料上進(jìn)行掃描曝光，形成所需...

PHABLE設(shè)備基于Eulitha采用的位移塔爾博特光刻(DTL)技術(shù)，通過(guò)低成本的光刻系統(tǒng)提供高分辨率光刻。DTL克服了傳統(tǒng)光刻中衍射的局限性，可曝光出質(zhì)量?jī)?yōu)...

全新設(shè)計(jì)的WB-200型半自動(dòng)細(xì)絲鍵合機(jī)非常適合實(shí)驗(yàn)室研發(fā)，產(chǎn)品原型試產(chǎn)，產(chǎn)品評(píng)估，產(chǎn)品返修等在有限預(yù)算下，同時(shí)必須要保證高質(zhì)量鍵合的用戶(hù)。

ZEM系列臺(tái)式掃描電鏡，以其成像技術(shù)和便攜性，滿(mǎn)足了多樣化的應(yīng)用場(chǎng)景。這一系列產(chǎn)品在國(guó)內(nèi)市場(chǎng)上以其定位和系列化布局，實(shí)現(xiàn)了成像清晰度、操作便捷性、系統(tǒng)一體化等關(guān)...

電子束蒸發(fā)系統(tǒng)是化合物半導(dǎo)體器件制作中的一種重要工藝技術(shù)。它是在高真空狀態(tài)下由電子束加熱坩堝中的金屬，使其熔融后蒸發(fā)到所需基片上形成金屬膜?？烧舭l(fā)很多難熔金屬或...

pharos310曝光是利用電子束在涂有感光膠的晶片上直接描畫(huà)或投影復(fù)印圖形的技術(shù)，它的特點(diǎn)是分辨率高、圖形產(chǎn)生與修改容易、制作周期短。其中掃描曝光系統(tǒng)是電子束...

圖形發(fā)生器+SEM(FIB)=簡(jiǎn)易電子束曝光系統(tǒng)（EBL） 保留電鏡原有功能。