蘇州芯矽電子科技有限公司
詳細摘要： 單晶圓濕法清洗機是半導(dǎo)體制造中用于單片晶圓表面清潔的關(guān)鍵設(shè)備，通過化學(xué)溶液（如SC-1、DHF等）結(jié)合兆聲波、超聲波等物理技術(shù)，高效去除有機物、金屬污染及顆粒殘...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-12 在線留言
詳細摘要： 半導(dǎo)體硅片清洗機是芯片制造中的關(guān)鍵設(shè)備，用于去除晶圓表面污染物（如顆粒、有機物、金屬殘留），確保高精度工藝良率。其核心采用濕法化學(xué)清洗（如RCA工藝）結(jié)合兆聲波...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-12 在線留言
詳細摘要： 單晶圓濕法清洗設(shè)備，專為高精度芯片制造設(shè)計。它采用濕法工藝，能精準(zhǔn)去除晶圓表面雜質(zhì)與污染物。具備高清洗均勻性，確保晶圓各區(qū)域潔凈度一致。自動化程度高，操作便捷，...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-12 在線留言
詳細摘要： 晶圓單片清洗機是半導(dǎo)體制造中用于單片晶圓表面污染物（顆粒、有機物、金屬離子等）去除的高精密設(shè)備，通過逐片獨立處理避免交叉污染，適用于制程節(jié)點。其核心技術(shù)包括伯努...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-08 在線留言
詳細摘要： Wafer清洗機是半導(dǎo)體制造中用于去除晶圓表面污染物（顆粒、有機物、金屬雜質(zhì)等）的關(guān)鍵設(shè)備，通過物理、化學(xué)或機械原理實現(xiàn)高潔凈度清洗。其主要技術(shù)包括超聲波清洗（...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-08 在線留言
詳細摘要： 半導(dǎo)體濕法設(shè)備是晶圓制造、封裝及器件加工中的關(guān)鍵工藝設(shè)備，通過化學(xué)腐蝕、電化學(xué)處理、超聲波空化、流體沖洗等技術(shù)，實現(xiàn)納米級潔凈度與微觀結(jié)構(gòu)調(diào)控。其核心在于精準(zhǔn)控...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-07 在線留言
詳細摘要： 邊拋后清洗機是半導(dǎo)體、光學(xué)及精密制造關(guān)鍵設(shè)備，通過濕/干法去除拋光殘留。核心流程含化學(xué)去氧化、兆聲波剝離、超純水沖洗及真空干燥，在Class 10環(huán)境下完成。支...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-07 在線留言
詳細摘要： SPM全自動超聲清洗機是半導(dǎo)體制造中用于高效清潔精密部件的關(guān)鍵設(shè)備，通過超聲波空化效應(yīng)結(jié)合化學(xué)溶劑（如硫酸、過氧化氫等）去除硅片、光罩、石英件等表面的微粒、金屬...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-06 在線留言
詳細摘要： EPI零部件清洗機是半導(dǎo)體制造中用于清潔外延生長設(shè)備關(guān)鍵部件的專用設(shè)備。其通過超聲波、化學(xué)或等離子清洗技術(shù)，高效去除零部件表面的微粒、金屬污染及殘留物，確保外延...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-06 在線留言
詳細摘要： 全自動光罩清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵工藝設(shè)備，用于高效去除光罩表面污染物。其通過超聲波、化學(xué)清洗或等離子體技術(shù)，精準(zhǔn)清除光刻膠殘留、顆粒及金屬雜質(zhì)，確保光罩圖...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-06 在線留言
詳細摘要： 硅片最終清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造關(guān)鍵工藝設(shè)備，用于去除硅片表面雜質(zhì)、顆粒及殘留物。它通過化學(xué)或物理清洗方式，確保硅片表面潔凈度達標(biāo)準(zhǔn)，以滿足芯片制造的嚴(yán)苛要求。設(shè)備...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-06 在線留言
詳細摘要： 具備高度均勻的蝕刻能力，可精確控制孔的深度、直徑等參數(shù)。其蝕刻過程穩(wěn)定，能保證孔壁的光滑度和垂直度。通過流體力學(xué)設(shè)計和控制系統(tǒng)，適應(yīng)不同工藝需求，確保蝕刻效果的...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-03-07 在線留言
詳細摘要： CMP預(yù)清洗機是一種用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的專業(yè)設(shè)備。在化學(xué)機械拋光（CMP）工藝前，它發(fā)揮著關(guān)鍵作用。其能有效去除半導(dǎo)體硅片、晶圓等表面的污垢、雜質(zhì)及殘留物，為后...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-03-07 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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